産学連携委員会(旧 産業部会)は,真空産業に係る企業人と真空の科学・技術に係る学会人との
情報交換と懇親を,主な目的として活動しております.今回は長年,超高真空(UHV)/極高真空(XHV)
技術に挑戦されている講師と,これらの圧力領域で大きな係わりのある水素の表面・表面直下の振舞いを
研究されている講師のご講演です.皆さま多数のご参加をお待ち申し上げます.
日 時:平成24(2012)年1月25日(水)14:00〜16:30
場 所:機械振興会館(芝公園)B3-1号室(地下3階)
参加費:無料
−プログラム−
開会挨拶 (日本真空協会 産学連携委員会委員長) 土岐 和之 14:00〜14:10
1.偏向帯状ビーム真空計(3Bゲージ)開発秘話
(有限会社真空実験室 代表取締役) 渡辺 文夫 14:10〜15:10
[講演要旨]
3Bゲージを開発するに至った,その着想から商品化までのプロセスについて紹介する.また,0.2%BeCu合金
チャンバーの誕生秘話,さらに最近開発に成功した新型NEGポンプを組み入れたオール銅合金製極高真空排気
システム(24時間以内に10-10Paの極高真空を発生)の紹介も行いたい.
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休 憩
2.Near-surface behavior of hydrogen absorbed in palladium single crystals and nanoparticles
(東京大学 生産技術研究所 准教授) Markus Wilde(ビルデ マーカス) 15:30〜16:30
[講演要旨]
Hydrogen absorption at palladium single crystal surfaces and nanocrystals is studied as a model for
hydrogen storage, getter pump action, and olefin hydrogenation catalysis. We can discriminate
surface-adsorbed hydrogen atoms from those dissolved inside the metal in either hydride or solid
solution phases by high-resolution H depth profiling (NRA). Isotope (H, D) labeling reveals that
gas phase molecular H2 is required to induce the surface penetration of adsorbed hydrogen atoms.
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講演終了後,講師をお招きして交流会(会費2,000円)を開催します.講師への質問,相互の情報交換
等,有意義なディスカッションができますので,こちらにも多数ご参加下さい.
なお,例会,懇親会に参加ご希望の方は,準備の都合上,事前に事務局宛ご連絡頂きますようお願いいた
します.
申込み・問合せ先:一般社団法人 日本真空協会 事務局
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
TEL:03-3431-4395 FAX:03-3433-5371
E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org
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