プラズマと固体・液体表面が接する境界部分には必ずシース領域が形成され、イオ
ンなどの励起粒子は必ずこのシースを介して固体表面に供給されます。そのような
シースの基礎的な物理法則は、Clement Dexter Childによって、1911年に初めて発
表されました。この法則は、彼の業績に敬意を表し、チャイルドの法則（Child's Law）
と呼ばれ、本年はその100周年にあたります。今回の真空トピックスでは、Child's Law
100年を記念し、シースに深く関わりを持つプラズマプロセスに焦点を当て、プラ
ズマの生成と制御の基礎概念から先端材料プロセスへの応用研究まで、フロントラ
ンナーとしてご活躍の方々を講師にお招きし、研究部会とSP部会が合同で研究会を
開催いたします。皆様のご参加をお待ち申し上げております。

日　時：2011年8月31日（水）13:00〜16:55（受付 12:30〜）
場　所：東京ビッグサイト　会議棟608会議室

　　　                      −講演プログラム−

■開会の挨拶　　　　 研究部会　部会長（(株)東芝）　杉山　直治　13:00〜13:05

1.　ガスプラズマの生成と制御
　　　　　　　　　　　　　　　　　　 （中部大学）　菅井　秀郎　13:05〜13:40

2.　液中プラズマの生成と応用について
　　　　　　　　　　　　　　　　　 （東京工業大学）安岡　康一　13:40〜14:15

3.　低圧ガスプラズマを用いたイオン伝導性材料プロセス
　　　　　　　　　　　　　　　　 （(株)アルバック）神保　武人　14:15〜14:50

　　　　　　　　　　　　　(休憩　14:50〜15:05)

4.　スパッタリングプロセスにおけるシース電位の役割とその薄膜物性制御への応用
　　　　　　　　　　　　　　　　　 （金沢工業大学）草野　英二　15:05〜15:40

5.　大気圧ガスプラズマ装置とその効果，用途例について
　　　〜超高密度大気圧プラズマユニット Tough Plasmaを中心として〜
　　　　　　　　　　　　　　　 （富士機械製造(株)）川角　哲徳　15:40〜16:15

6.　液中プラズマを用いた材料プロセス
　　　〜ナノクラスター触媒システムの開発を中心に〜
　　　　　　　　　　　　　　　　　　 （名古屋大学）齋藤　永宏　16:15〜16:50

■閉会の挨拶　　　　ＳＰ部会 部会長（千葉工業大学）井上　泰志　16:50〜16:55


参加費（予稿集代・消費税を含む）　当日受付にて、お支払いください。
　　スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会会員　　無 　料
　　日本真空協会・日本真空工業会会員　　　　　　　　　　3,000円
　　一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　5,000円
　　学生　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　1,000円
　※お申込は事前に行ってください。ただし、余席があれば当日も受け付けます。

申し込み・問い合わせ先
　　一般社団法人日本真空協会 事務局　　　TEL:03-3431-4395    FAX:03-3433-5371
                               　　　　　E-mail: ofc-vsj@vacuum-jp.org
                               　　　　　URL: http://www.vacuum-jp.org