スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第６回技術交流会・　第116回定例研究会

　SP部会では，会員相互の技術情報交換の場を提供するために，技術交流会を
企画しています．毎回ご好評をいただいており，今年で６回目となります．ショ
ートプレゼンテーションとポスター発表をあわせた形とし，かつポスターセッ
ションは懇親を兼ねる形といたします．通常の定例研究会では，会員相互が
情報を交換する機会がなかなかなく，せっかく同じ部会に所属していることの
メリットを十分に活かせておりませんでした．この技術交流会を機会に是非
会員相互で有益な技術情報を交換していただき，会員各社のさらなる技術的
発展につながればと考えております．また，ショートプレゼンテーションに
先立って，第１１６回定例研究会として2件の技術講演を企画しております．
　部会員以外の方の参加も歓迎いたします．皆様の奮ってのご参加をお待ち
しております．

日　　時：平成21年11月20日（火）　13:00-18:30
場　　所：機械振興会館　B3-研修2号室（地下３階）
　　　　　東京都港区芝公園3-5-8（東京タワー前）

　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

定例研究会
(1) 吸湿による薄膜光学物性変化のダイナミクスと評価手法のISO化へ
    向けての取り組み
    〜経済産業省基準認証研究開発事業「ファインセラミックス薄膜特性の
   　　外部環境影響の評価方法に関する標準化」委員会報告〜
　　　　　　　（セントラル硝子(株) 硝子研究所）　高松　敦  13:00-13:40

(2) 金属表面の吸着水とその除去
　　　　　　　　　（太陽日酸(株) 電子事業部）　石原　良夫  13:40-14:20

　　　　　　　　　　　　　　　　−休憩−

技術交流会
(3)　ショートプレゼンテーション（7分×15件予定）　　　　   14:40-16:10
(4)　ポスターセッション　　　　　 　　  　　　　　　　　   16:30-18:30



ショートプレゼンテーション（およびポスター）の発表を募集いたします．
内容については特に制限を設けません．新製品の宣伝的な内容等でも結構です．
また，研究機関等にご所属の方の研究紹介も結構です．
発表を希望される方は，以下の期日で日本真空協会へお申し込みください．


発表申込　１０月２０日（火）まで（それ以後はお問合せください）
アブストラクト（Ａ４用紙1枚）提出　１１月６日（金）まで


第1-5回ポスター発表参加者：旭硝子�梶Aアルバックテクノ�梶Aイーグル
工業�梶AAGCセラミックス�梶A�椛蜊辮^空機器製作所、大阪大学、オリン
パス�梶A金沢工業大学、キヤノン�梶Aキヤノンアネルバ�梶Aキヤノンアネ
ルバエンジニアリング�梶Aキヤノンアネルバテクニクス�梶A京都大学、
�潟Vンクロン、助川電気工業�梶A�潟Xピネット、成蹊大学、中部大学、
東京大学、東洋大学、名古屋大学、�鞄�鉱マテリアルズ、日本真空光学�梶A
日本ビクター�梶A�潟uリジストン、平和電源�梶Aペガサスソフトウエア�梶A
法政大学、�椛ｺ田製作所（敬称略）

参加費：1.SP部会会員　　　　　　　　　　　　無料
　　　　2.日本真空協会個人会員　　　　　　\23,000
　　　　3.日本真空協会法人会員　　　　　　\18,000
　　　　4.教育機関，公的機関に属する者　　\12,000
　　　　5.学生　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6.一般　　　　　　　　　　　　　　\28,000
申込み・問合せ先：日本真空協会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org