スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第117回定例研究会
テーマ：「スパッタリング製膜技術の最前線」

　高速製膜，連続製膜，膜質制御など，スパッタリング製膜技術に対する要求は，
近年ますます高度化してきています．これらに対する解として，スパッタリング
製膜過程の基礎的理解や，新たな製膜形式・放電制御手法を目指して研究・開発
が進められています．今回は，スパッタリング製膜に関する世界的権威である
チェコ西ボヘミア大学Musil，Vlcek両先生をはじめとする4名の講師の方々に，
このような話題の最前線に関するご講演をいただけることになりました．金沢
工業大学のご好意で，利便の良い虎ノ門の会場を利用できることとなり，参加
費も通常よりは抑え目に設定できました．スパッタリングにご興味をお持ちの
多数の皆様が参加され，活発な議論がなされることを期待しています．

日　　時：平成22年 3月11日（木)　13:00-16:30 (受付 12:30〜)
場　　所：金沢工業大学 虎ノ門キャンパス 101演習室
　　　　　東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル1階
共　　催：金沢工業大学ものづくり研究所

　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

(1)「反応性スパッタ法による化合物薄膜作製におけるターゲットモード変化」
                    （北見工業大学）阿部良夫               13:10-13:50

(2) 「スパッタリング法によるフィルム基板への連続成膜技術」
                    （株式会社神戸製鋼所）碇 賀充，玉垣 浩 13:50-14:30

                              ― 休憩 ―

(3) Reactive magnetron sputtering of thermally stable nanocomposite
    coatings
   (University of West Bohemia, Czech Republic) J. Musil   15:00-15:40

(4) Film depositions using pulsed magnetrons systems of several types
   (University of West Bohemia, Czech Republic) J.Vlcek    15:40-16:20


参加費：1.SP部会会員　　　　　　　　　　　　無料
　　　　2.日本真空協会個人会員　　　　　　\5,000
　　　　3.学生　　　　　　　　　　　　　　\3,000
　　　　4.一般　　　　　　　　　　　　　　\10,000
申込み・問合せ先：日本真空協会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org