産業部会は，真空技術に関する多様な情報を紹介することを目的として活動を続けております．5月定例
部会のプログラムをお知らせいたします．定例部会終了後には，毎回恒例となっております講師を囲んでの
懇親会を開催いたします．さらに深く突っ込んだディスカッションや情報交換の場としてご活用ください．
　多数のご参加をお待ち申し上げます．



日　時：平成22年5月19日（水）14:00〜16:30
場　所：機械振興会館B3-1 号室（地下3 階）
参加費：無料


　　　　　　　　　　　　　　　ープログラムー

開会挨拶　　　　　　　　         （日本真空協会　産業部会長）　土岐　和之　14:00〜14:10

１．アークプラズマ蒸着源によるナノ粒子，ナノダイヤモンドがもたらす応用
   （アルバック理工（株）開発部　マーケティング室　専門室長）　阿川　義昭　14:10〜15:10

［講演要旨］

パルスアーク蒸着源（商品名：アークプラズマ蒸着装置）は従来のDC型カソーディックアークと違い
パルスで放電させることで，DCアークで得られない，様々な諸現象が現れている．今回はナノ粒子の
形成による触媒分野への応用と超微結晶ダイヤモンド形成について紹介する．
 

　　　　　　　　　　　　　　　　　休　　憩

２．高電圧真空絶縁能力向上に向けた取り組み
             （埼玉大学工学部　電気電子システム工学科　教授）　小林　信一　15:30〜16:30

［講演要旨］

真空が有する優れた絶縁能力は，加速器や電子顕微鏡のような先端科学機器のみならず，多くの産業用
機器で利用されている．真空中の絶縁破壊現象は，電極や絶縁物の表面状態に支配されることから，
ここでは，これまで行って来た表面処理法の効果，ならびにX線光電子分光法(XPS)により得られる表面
状態と真空中絶縁破壊特性との関係について述べる．


　講演終了後，講師をお招きして懇親会（会費2,000円）を開催します．講師への質問，相互の情報交等，
有意義なディスカッションができますので，こちらにも多数ご参加下さい．
なお，参加ご希望の方は準備の都合上、事前に事務局宛ご連絡頂きますようお願いいたします．

◎次回の開催予定：平成22年6月16日(水)．

申込み・問合せ先：日本真空協会 事務局
　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3431-5371
　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org