スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第119回定例研究会
共催：(社)新金属協会ターゲット部会
テーマ：「スパッタリング・ターゲットに関する最近の動向」

　スパッタリング・ターゲットは，言うまでもなくスパッタリング法によって形成
される薄膜の"原料"であり，所望の組成や特性の薄膜を再現性よく形成するために，
その物性は極めて重要です．しかしながら，ターゲットの製造方法や技術的な課題
は，スパッタリングプロセスに従事されている方々からは中々見えづらくなってい
るのではないかと思います．本研究会においては，スパッタリング・ターゲットの
技術動向を紹介するべく，ターゲットメーカー，スパッタリング装置メーカーの
方々を講師にお招きいたしました．本研究会が、スパッタリング技術が今後更に
科学技術産業の発展に寄与していく一助となれば幸いです．心よりみなさまのご参
加をお待ち申し上げております．
　なお，定例研究会プログラムに先立ちSP部会賞記念講演が予定されておりました
が，残念ながら本年は対象者無しとなってしまいました．そこで，SP部会前部会長
の草野先生に特別講演をお願いしました．多数のご参加をお待ち申し上げます．

日　　時：平成22年 7月27日（火)　13:00〜16:40 (受付 12:30〜)
場　　所：機械振興会館　研修-2 号室（地下3階）
　　　　　東京都港区芝公園3-5-8
　　　　　※当初のご案内と会議室が変更になりました。ご注意ください。

　　　　　　　　　　　　　 −特別講演−

スパッタリングターゲットに求められる役割
　　　　　　　　　　　（金沢工業大学）草野　英二	13:00〜13:40

　　　　　　　　　　　　　−研　究　会−
ターゲットの製法とパーティクルについて
　　　　　　　　　　　（株式会社アルバック）高橋　一寿　13:40〜14:20

円筒形カソードの現状と今後の展開
　　　　　　　　　　　（AKT America INC.）Aki Hosokawa　14:20〜15:00

　　　　　　　　　　　　　　−休　憩−　　　　　　　　 15:00〜15:20

最近の太陽電池技術動向について
　　　　　　　　　　（住友金属鉱山株式会社）阿部　能之　15:20〜16:00
　　　　　　　　　　　　 
半導体用ターゲットの最近の技術動向　　　　　　　　　　  
　　　　　　　　　　　（日鉱金属株式会社）　牧野　修仁　16:00〜16:40


参加費：1.SP部会会員，新金属協会ターゲット部会員　無料
　　　　2.日本真空協会個人会員　　　　　　　　　　\23,000
　　　　3.日本真空協会法人会員　　　　　　　　　　\18,000
　　　　4.教育機関，公的機関に属する者    　　　　\12,000
　　　　5.学生　　　　　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6.一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　\28,000

問合せ先：日本真空協会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
       　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org