スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第7回技術交流会・　第121回定例研究会
共催：新金属協会・ターゲット部会

　SP部会では，会員相互の技術情報交換の場を提供するために，技術交流会を
企画しています．毎回ご好評をいただいており，今年で7回目となります．ショ
ートプレゼンテーションとポスター発表をあわせた形とし，かつポスターセッ
ションは懇親を兼ねる形といたします．通常の定例研究会では，会員相互が
情報を交換する機会がなかなかなく，せっかく同じ部会に所属していることの
メリットを十分に活かせておりませんでした．この技術交流会を機会に是非
会員相互で有益な技術情報を交換していただき，会員各社のさらなる技術的
発展につながればと考えております．また，ショートプレゼンテーションに
先立って，第121回定例研究会として2件の技術講演を企画しております．
　部会員以外の方の参加も歓迎いたします．皆様の奮ってのご参加をお待ち
しております．

日　　時：平成22年12月 2日（木）　13:00〜18:30
場　　所：機械振興会館　B3-研修2号室（地下３階）
　　　　　東京都港区芝公園3-5-8（東京タワー前）

　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

定例研究会
(1) スパッタリング・プラズマプロセスを用いた真空ナノエレクトロニクス
　　デバイスの作製
　　　（京都大学大学院工学研究科 電子工学専攻）後藤 康仁 13:00〜13:40

(2) 透明導電性酸化物の探索とデバイス作製
（産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門）菊地 直人 13:40〜14:20

　　　　　　　　　　　　　　　　−休憩−

技術交流会
(3)　ショートプレゼンテーション（7分×15件予定）　　　   14:40〜16:10
(4)　ポスターセッション　　　　　 　　  　　　　　　　   16:30〜18:30



ショートプレゼンテーション（およびポスター）の発表を募集いたします．
内容については特に制限を設けません．新製品の宣伝的な内容等でも結構です．
また，研究機関等にご所属の方の研究紹介も結構です．発表を希望される方は，
以下の期日で日本真空協会へお申し込みください．


発表申込　11月2日（火）まで（それ以後はお問合せください）
アブストラクト（A4用紙1枚）提出　11月17日（水）まで


第1〜6回ポスター発表参加者：旭硝子�梶Aアルバックテクノ�梶Aイーグル
工業�梶AAGCセラミックス�梶AAGCセラミックス�梶C�椛蜊辮^空機器製作所，
大阪大学，オリンパス�梶C金沢工業大学，キヤノン�梶Cキヤノンアネルバ�梶C
キヤノンアネルバエンジニアリング�梶Cキヤノンアネルバテクニクス�梶C
京都大学，芝浦メカトロニクス�梶C�潟Vンクロン，助川電気工業�梶C�潟Xピ
ネット，成蹊大学，大亜真空�梶C中部大学，東海大学，東京大学，東洋大学，
名古屋大学，�鞄�鉱マテリアルズ，日本真空光学�梶C日本ビクター�梶C
�潟uリジストン，平和電源�梶Cペガサスソフトウエア�梶C法政大学，都城
工業高等専門学校，�椛ｺ田製作所（敬称略）

参加費：1.SP部会会員　　　　　　　　　　　　無料
　　　　2.日本真空協会個人会員　　　　　　\23,000
　　　　3.日本真空協会法人会員　　　　　　\18,000
　　　　4.教育機関，公的機関に属する者　　\12,000
　　　　5.学生　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6.一般　　　　　　　　　　　　　　\28,000

申込み・問合せ先：日本真空協会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org