産業部会は年６回，産業界と大学・研究機関から講師をお招きして講演会（例会）を開催しています．
新年最初の例会は，真空技術あるいは表面分析それぞれの分野で長年ご活躍の講師お二人をお招き致しました．
また，例会終了後は講師を囲み恒例の懇親会も開催致します．皆さま多数のご参加をお待ち申し上げます．

日　時：平成23(2011)年1月26日（木）14:00〜16:30
場　所：機械振興会館（芝公園）B3-2号室（地下3 階）
参加費：無料

　　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

開会挨拶　　　　　　　　　　　　　（日本真空協会　産業部会長）　土岐　和之　14:00〜14:10

１．産業応用としてのUHV 機器の歴史と将来
　　　　　　　　　　　　　　　　　（元キヤノンアネルバ株式会社）　林　義孝　14:10〜15:10

　［講演要旨］

 UHV技術は，当初UHVそのものを作るという研究段階を経て，ある分野の真空応用産業機器を支える
基本システムとなった．しかしその後の真空産業の大きな発展（半導体製造，フラットパネル製造）
の中で，UHVシステムは主流から外されてきた．しかし近年，一部の電子デバイスの進化とともに
U(X)HV 技術が見直されつつある．


　　　　　　　　　　　　　　　　　休　　憩


２．新しい超高輝度・高偏極・長寿命スピン偏極低エネルー電子顕微鏡の開発とスピントロニクスへの応用
　　（大阪電気通信大学 エレクトロニクス基礎研究所 所長・教授）　越川　孝範　15:30〜16:30

　［講演要旨］

 スピントロニクスは将来のデバイス開発にとって非常に重要で，世界中で研究が行われているが
観察手法は限られている．スピン偏極電子を使って磁区観察をする表面電子顕微鏡（スピン偏極
低エネルギー電子顕微鏡）が注目を集めている．しかしコントラストが弱い磁区を観察するため
市販の顕微鏡では動的観察が出来なかった．そこで新しい発想で「超高輝度・高偏極・長寿命
SPLEEM」を開発した．従来とは全く異なった性能で，ダイナミック観察ができる．開発の過程
ならびにそれを用いて観察した研究例を紹介する．



　講演終了後，講師をお招きして懇親会（会費2,000円）を開催します．講師への質問，相互の情報交換等，　
有意義なディスカッションができますので，こちらにも多数ご参加下さい．
　なお，例会，懇親会に参加ご希望の方は準備の都合上，事前に事務局宛ご連絡頂きますようお願いいたし
ます．

申込み・問合せ先：日本真空協会　事務局
　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3433-5371
　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org