産業部会は年６回，産業界と大学・研究機関から講師をお招きして講演会（例会）を開催しています．
本例会では，最新のナノテク表面評価装置の技術動向とプラズマプロセスの新規なコンセプト“メゾプラズマ”
について，ベテランと第一線でご活躍の講師にご講演をお願いしました．
　また，例会終了後は講師を囲み恒例の懇親会も開催致しますので，皆さま多数のご参加をお待ち申し上げます．
日　時：平成23(2011)年3月23日（水）14:00〜16:30
場　所：機械振興会館（芝公園）B3-1号室（地下3 階）
参加費：無料

　　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

開会挨拶　　　　　　　　　　　　　（日本真空協会　産業部会長）　土岐　和之　14:00〜14:10

１．最先端機能性材料の研究・開発をサポートする表面評価装置の技術動向
（オミクロン ナノテクノロジー ジャパン株式会社　代表取締役社長）　大岩　烈 　14:10〜15:10

　［講演要旨］

 ナノテクノロジーは基盤技術として研究・開発分野ばかりでなく，広く工業製品に応用され
利用されている．21世紀の産業の糧は，如何にして材料の表面・界面を制御して必要とする
機能を発現させるかにあるといっても過言ではない．それを支えてきたのが表面評価技術である．
表面評価装置の最新技術動向を紹介する．


　　　　　　　　　　　　　　　　　休　　憩


２．メゾプラズマを用いたウエハ等価高速厚膜化技術
（東京大学 大学院工学系研究科マテリアル工学専攻 准教授）　神原　淳（マコト） 15:30〜16:30

　［講演要旨］

 中間的な圧力領域にあるプラズマは，低圧プラズマと熱プラズマの特徴を兼ね備え，堆積技術応用に
際しては，一見相反する低温度・高速堆積と薄膜品質を両立するプロセスと期待されます．このメゾ
プラズマを利用した，高速エピタキシャル技術の特徴と，新たな太陽電池を目指したウエハ等価厚膜
シリコン開発に関する研究を紹介します．



　講演終了後，講師をお招きして懇親会（会費2,000円）を開催します．講師への質問，相互の情報交換等，　
有意義なディスカッションができますので，こちらにも多数ご参加下さい．
　なお，例会，懇親会に参加ご希望の方は準備の都合上，事前に事務局宛ご連絡頂きますようお願いいたし
ます．

申込み・問合せ先：日本真空協会　事務局（大工原）
　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3433-5371
　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org