スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第123回定例研究会
テーマ：「次世代プラズマプロセス技術の最新動向」

　プラズマプロセス分野は様々なプラズマ生成形態を利用したスパッタリング成膜
やCVD成膜並びに半導体微細加工への応用など広く産業に浸透しています．本研究会
では，プラズマ生成・診断技術をベースにスパッタリング成膜，CVD成膜，並びにプ
ラズマ微細加工に関して研究を推進されている第一線でご活躍の先生方を大学及び
企業から講師としてお招きしました．また，本研究会は大阪大学接合科学研究所と
の共催並びに(社)高温学会の協賛のもとで開催し，会場である接合科学研究所を見
学させて頂く機会を設けました．接合科学に関する国内の先導的な研究機関である
本研究所の見学は大変貴重な機会であります．皆様のご参加を心よりお待ち申し上
げております．

日　　時：平成23年5月20日（金）　13:00〜16:40 (受付 12:30〜)
場　　所：大阪大学吹田キャンパス 接合科学研究所　荒田記念館ホール
　　　　　大阪市茨木市美穂ヶ丘11-1

講演プログラム

「低インダクタンス内部アンテナを用いたプラズマ源の開発と反応性スパッタ製膜
プロセスへの展開」　
　　　　（大阪大学 接合科学研究所）　節原　裕一，趙　研，竹中　弘祐
　　　　（株式会社イー・エム・ディー）　江部　明憲　　　　　　13:00〜13:40

「多相媒質が関与するプラズマ材料プロセシング」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　（大阪市立大学）　白藤　立　13:40〜14:20

「3次元微細加工装置と最新動向」　
　　　　　　　　　　　　（住友精密工業株式会社）　野沢 善幸　14:20〜15:00

　　　　　　　　　　　　　―　休憩　―　　　　　　　　　　　  15:00〜15:20

見学　「大阪大学 接合科学研究所」　　　　　　　　　　　　　　15:20〜16:40


共　催：大阪大学 接合科学研究所
協　賛：（社）高温学会
参加費：1.SP部会会員　　　　　　　　　　　　無料
　　　　2.日本真空協会個人会員　　　　　　\23,000
　　　　3.日本真空協会法人会員　　　　　　\18,000
　　　　4.教育機関，公的機関に属する者　　\12,000
　　　　5.学生　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6.一般　　　　　　　　　　　　　　\28,000

問合せ先：日本真空協会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
　　　　　 e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org