産学連携委員会（旧　産業部会）は，真空産業に係る企業人と真空の科学・技術に係る学会人との
　情報交換と懇親を，主な目的として活動しております．今回は長年，超高真空（UHV）／極高真空（XHV）
　技術に挑戦されている講師と，これらの圧力領域で大きな係わりのある水素の表面・表面直下の振舞いを
　研究されている講師のご講演です．皆さま多数のご参加をお待ち申し上げます．


　日　時：平成24(2012)年1月25日（水）14:00〜16:30
　場　所：機械振興会館（芝公園）B3-1号室（地下3階）
　参加費：無料

　　　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

　開会挨拶　　　　　　　　　 （日本真空協会　産学連携委員会委員長）　土岐　和之　14:00〜14:10

　１．偏向帯状ビーム真空計（３Ｂゲージ）開発秘話
　　　　　　　　　　　　　　　　 （有限会社真空実験室　代表取締役）　渡辺　文夫　14:10〜15:10

　　［講演要旨］

　3Bゲージを開発するに至った，その着想から商品化までのプロセスについて紹介する．また，0.2%BeCu合金
　チャンバーの誕生秘話，さらに最近開発に成功した新型NEGポンプを組み入れたオール銅合金製極高真空排気
　システム（24時間以内に10-10Paの極高真空を発生）の紹介も行いたい．


　　　　　　　　　　　　　　　　　　休　　憩

　２．Near-surface behavior of hydrogen absorbed in palladium single crystals and nanoparticles
　　　　 （東京大学　生産技術研究所　准教授）　Markus Wilde（ビルデ　マーカス）　15:30〜16:30

　　［講演要旨］

　Hydrogen absorption at palladium single crystal surfaces and nanocrystals is studied as a model for 
　hydrogen storage, getter pump action, and olefin hydrogenation catalysis. We can discriminate 
　surface-adsorbed hydrogen atoms from those dissolved inside the metal in either hydride or solid 
　solution phases by high-resolution H depth profiling (NRA). Isotope (H, D) labeling reveals that 
　gas phase molecular H2 is required to induce the surface penetration of adsorbed hydrogen atoms. 



　　講演終了後，講師をお招きして交流会（会費2,000円）を開催します．講師への質問，相互の情報交換
　等，有意義なディスカッションができますので，こちらにも多数ご参加下さい．
　なお，例会，懇親会に参加ご希望の方は，準備の都合上，事前に事務局宛ご連絡頂きますようお願いいた
　します．

　申込み・問合せ先：一般社団法人 日本真空協会　事務局
　　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3433-5371
　　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org