日本真空協会 2012 年 2 月研究例会
日本表面科学会 第71回表面科学研究会

表面から少し深い領域を正確に評価するための新技術

　スマートフォンに代表されるように技術開発を基に技術開発が新たな需要を生み出し，さらに市場における需要の拡大に
より新たな技術開発が促進されるという好循環を形成しています．21世紀の産業の糧は，如何にして材料の表面・界面を制
御して必要とする機能を発現させるかにあるといっても過言ではありません．日本の優れた産業技術は，長い年月の蓄積か
ら生まれる基礎科学に基づいた材料開発力に支えられてきました．表面・界面の性質はナノテクノロジーと関連して，ます
ます重要な問題となっています．それを支えてきたが表面評価技術です．本研究会では，最近注目を集めている表面・界面
評価手法を取り上げました．利用者の視点を交えて議論する機会として多数のご参加をお待ちしております．

　　　　　案内（PDF 272KB）
 
日　時　2012年2月2日(木)
　　　　13:00〜16:45（受付12:30〜）
　　　　
場　所　東京理科大学　森戸記念館　第1会議室
　　　　　　　東京都新宿区神楽坂４−２−２
　　　　　　　TEL　０３−５２２５−１０３３（代表）
　　　　　　　http://www.jsise.org/topics/morito.pdf

プログラム
　　　13:00〜13:05
　　　　開会挨拶
　　　　　　深津 晋（日本表面科学会企画委員長）
　１．13:05〜13:45
　　　　「Spring-8におけるHAXPESの現状と将来」
　　　　　　吉川 英樹（(独)物質・材料研究機構）
　２．13:45〜14:25
　　　　「収差補正STEMを用いたEDX/EELSによる界面の分析の現状」
　　　　　　川崎 直彦（(株)東レリサーチセンター）
　３．14:25〜15:05
　　　　「アトムプロープによる３次元元素分ｓ系の現状と将来」
　　　　　　永井 康介（東北大学）
　　 (15:05〜15:20休憩)
　４．15:20〜16:00
　　　　「Arクラスターを用いたXPS深さ方向分析の現状と将来」
　　　　　　宮山 卓也（アルバック・ファイ(株)）
　５．16:00〜16:40
　　　　「Arクラスターを用いたTOF-SIMS深さ方向分析の現状と将来」
　　　　　　松尾 治郎（京都大学）
　　　16:40〜16:45
　　　　閉会挨拶
　　　　　　杉山 直治（日本真空協会　講演・研究会企画委員会委員長）

参加費（当日会場にて御支払いください．）
　　　日本真空協会会員，日本表面科学会会員：1,500 円
　　　非会員　　　　　　　　　　　　　　　：2,500 円
　　　学生　　　　　　　　　　　　　　　　：無料
　　　予稿集　　　　　　　　　　　　　　　：1,000 円


申込方法
　　　ウェブサイト（http://www.sssj.org/）またはe-mail を使い，次の項目を記入してお申込ください．
　　　氏名（ふりがな），所属，連絡用e-mail アドレス，参加区分（会員（協賛学会員を含む），学生，一般）
　　　締め切り：1 月20日(金)

申し込み先
　　　日本表面科学会　TEL：03-3812-0266　FAX：03-3812-2897
　　　e-mail:shomu@sssj.org
　　※お申込に際しご記載いただきましたメールアドレスは，日本真空協会，日本表面科学会が主催する本件以外のセミナー・
　　　講演会などのご案内にも使用させていただく場合がございます．ご案内が不要な方はお手数ですがその旨お申し出ください．



一般社団法人 日本真空協会
　　〒105-0011　東京都港区芝公園3-5-8　機械振興会館306号室
　　TEL 03-3431-4395  FAX 03-3433-5371
　　e-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org
　　URL : http://www.vacuum-jp.org
　　講演・研究会企画委員会　大岩 烈（オミクロンナノテクノロジージャパン(株)），中村 恵（キヤノンアネルバ(株)）

公益社団法人 日本表面科学会
　　〒113-0033　東京都文京区本郷2-40-13　本郷コーポレイション402
　　TEL 03-3812-0266  FAX 03-3812-2897
　　e-mail:shomu@sssj.org
　　URL : http://www.sssj.org