スパッタリング技術・プラズマ技術は、各種産業の基盤技術として、また最先端の材料開発・ デバイス開発において不可欠なプロセスとして、広く利用されています。 1991年にスタートしたInternational Symposium on Sputtering and Plasma Processes(ISSP) は、20年以上にわたって、これらプロセスのメカニズムや得られる膜とプロセスパラメータとの 相関などについて、基礎的な知識を交換・集積するための場を提供してまいりました。また研究 者のみならず、実際の現場で作業をしている技術者の皆様に、これらの知見を広く提供すること も、本会議の大きな目的のひとつです。 このたびは、来年7 月に開催されるISSP2013のプレセッションを、日本真空学会 講演・研究会 企画委員会とSP部会の合同研究会として開催いたします。注目を集めている各種薄膜応用デバイ ス開発の第一線でご活躍の研究者・技術者の方々をお招きし、製膜プロセスに関連した知見がど のように生かされているかを含め、開発動向についてお話しくださるようお願いしました。 皆様のご参加を心よりお待ちしております。 日 時:2012年10月17日(水)13:00〜16:45(受付 12:30〜) 場 所:東京ビッグサイト 会議棟605会議室 定 員:120名 −講演プログラム− ■開会の挨拶 ISSP2013実行委員長 中野 武雄(成蹊大学) 13:00〜13:05 1.「固体薄膜二次電池の高機能化―制御されたナノ構造負極活物質を中心に―」 (岩手県立産業技術短期大学校)馬場 守 13:05〜13:45 2.「薄膜のクロミック現象を用いた調光ミラーガラスの開発」 (産業技術総合研究所)吉村 和記 13:45〜14:25 3.「半導体/金属錯体ハイブリッド光触媒による人工光合成 ―太陽光,水,二酸化炭素から有機物の直接合成―」 (株式会社豊田中央研究所)荒井 健男 14:25〜15:05 (休憩 15:05〜15:20) 4.「次世代不揮発性メモリMRAM の量産技術の現状と課題」 (キヤノンアネルバ株式会社)恒川 孝二 15:20〜16:00 5.「新型不揮発性メモリ量産技術の現状」 (株式会社アルバック)西岡 浩 16:00〜16:40 ■閉会の挨拶 日本真空学会 講演・研究会企画委員長 杉山 直治((株)東芝) 16:40〜16:45 参加費(予稿集代・消費税を含む) スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会会員 無料 日本真空学会・日本真空工業会会員 3,000円 一般 5,000円 学生 1,000円 ※お申込は事前に行ってください。ただし、余席があれば当日も受け付けます。 参加費は、当日申し受けます。 内容についての問合せ先 一般社団法人日本真空学会 事務局 TEL:03-3431-4395 FAX:03-3433-5371 E-mail: ofc-vsj@vacuum-jp.org *申し込みは、下記ウェブページの併催事業よりお願いします。 VACUUM2012真空展 http://www.nikkan.co.jp/eve/vacuum/index.html 申込についての問合せ先 日刊工業新聞社 業務局 イベント事業部内 TEL:03-5644-7221 FAX:03-5641-8321 |