「第34回 真空展VACUUM2012」併設「真空トピックス」
日本真空学会10月研究例会
スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)
第130回定例研究会・ISSP2013 プレセッション
〜スパッタ・プラズマを利用した先端技術とその基礎〜

 スパッタリング技術・プラズマ技術は、各種産業の基盤技術として、また最先端の材料開発・
デバイス開発において不可欠なプロセスとして、広く利用されています。
 1991年にスタートしたInternational Symposium on Sputtering and Plasma Processes(ISSP)
は、20年以上にわたって、これらプロセスのメカニズムや得られる膜とプロセスパラメータとの
相関などについて、基礎的な知識を交換・集積するための場を提供してまいりました。また研究
者のみならず、実際の現場で作業をしている技術者の皆様に、これらの知見を広く提供すること
も、本会議の大きな目的のひとつです。
 このたびは、来年7 月に開催されるISSP2013のプレセッションを、日本真空学会 講演・研究会
企画委員会とSP部会の合同研究会として開催いたします。注目を集めている各種薄膜応用デバイ
ス開発の第一線でご活躍の研究者・技術者の方々をお招きし、製膜プロセスに関連した知見がど
のように生かされているかを含め、開発動向についてお話しくださるようお願いしました。
皆様のご参加を心よりお待ちしております。

日 時:2012年10月17日(水)13:00〜16:45(受付 12:30〜)
場 所:東京ビッグサイト 会議棟605会議室
定 員:120名

                         −講演プログラム−

■開会の挨拶          ISSP2013実行委員長 中野 武雄(成蹊大学) 13:00〜13:05

1.「固体薄膜二次電池の高機能化―制御されたナノ構造負極活物質を中心に―」
                 (岩手県立産業技術短期大学校)馬場  守 13:05〜13:45

2.「薄膜のクロミック現象を用いた調光ミラーガラスの開発」
                     (産業技術総合研究所)吉村 和記 13:45〜14:25

3.「半導体/金属錯体ハイブリッド光触媒による人工光合成
   ―太陽光,水,二酸化炭素から有機物の直接合成―」
                   (株式会社豊田中央研究所)荒井 健男 14:25〜15:05
   

             (休憩 15:05〜15:20)

4.「次世代不揮発性メモリMRAM の量産技術の現状と課題」
                  (キヤノンアネルバ株式会社)恒川 孝二 15:20〜16:00

5.「新型不揮発性メモリ量産技術の現状」
                     (株式会社アルバック)西岡  浩 16:00〜16:40

■閉会の挨拶  日本真空学会 講演・研究会企画委員長 杉山 直治((株)東芝) 16:40〜16:45


参加費(予稿集代・消費税を含む)
  スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会会員    無料
  日本真空学会・日本真空工業会会員          3,000円
  一般                        5,000円
  学生                        1,000円
  ※お申込は事前に行ってください。ただし、余席があれば当日も受け付けます。
   参加費は、当日申し受けます。

内容についての問合せ先
  一般社団法人日本真空学会 事務局     TEL:03-3431-4395    FAX:03-3433-5371
                       E-mail: ofc-vsj@vacuum-jp.org

*申し込みは、下記ウェブページの併催事業よりお願いします。
  VACUUM2012真空展 http://www.nikkan.co.jp/eve/vacuum/index.html

申込についての問合せ先
  日刊工業新聞社 業務局 イベント事業部内  TEL:03-5644-7221    FAX:03-5641-8321