スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)
第9回技術交流会・ 第131回定例研究会


 SP部会では,会員相互の技術情報交換の場を提供するために,技術交流会を企画しています.毎回ご好評を
いただいており,今年で 9回目となります.ショートプレゼンテーションとポスター発表をあわせた形とし,か
つポスターセッションは懇親を兼ねる形といたします.通常の定例研究会では,会員相互が情報を交換する機会
がなかなかなく,せっかく同じ部会に所属していることのメリットを十分に活かせておりませんでした.この技
術交流会を機会に是非会員相互で有益な技術情報を交換していただき,会員各社のさらなる技術的発展につなが
ればと考えております.また,ショートプレゼンテーションに先立って,第131回定例研究会として2件の技術講
演を企画しております.
 部会員以外の方の参加も歓迎いたします.皆様の奮ってのご参加をお待ちしております.

日  時:平成24年12月6日(木) 13:00-18:30
場  所:機械振興会館  東京都港区芝公園3-5-8(東京タワー前)
     (定例研究会およびショートプレゼンテーション) 地下3階 B3-2号室
     (ポスターおよび交流会)            地下3階 B3-1号室

               −プログラム−

定例研究会
(1) 低ダメージのためのロータリーカソード技術と高速成膜技術
                            (有限会社アーステック)小島 啓安 13:00-13:40

(2) スパッタリング法による酸化アルミニウム薄膜堆積におけるターゲット粒径および密度の薄膜物性への影響
                 (金沢工業大学高度材料科学センター)草野 英二,坂本 宗明 13:40-14:20

                 −休憩−

技術交流会
(3) ショートプレゼンテーション(8分程度×15件予定)                    14:40-16:40
(4) ポスターセッション                                   17:00-18:30

ショートプレゼンテーション(およびポスター)の発表を募集いたします. 内容については特に制限を設けません. 新製品の宣伝的な内容等でも結構です. また,研究機関等にご所属の方の研究紹介も結構です. 発表を希望される方は,以下の期日で日本真空学会へお申し込みください.

  • 発表申込 11月6日(火)まで(それ以後はお問合せください)
  • アブストラクト(A4用紙 1枚)提出 11月24日(木)まで
第1〜8回ポスター発表参加者:秋田県産業技術総合研究センター,旭硝子梶Cアルバックテクノ梶Cイーグル 工業梶C潟Cー・エム・ディー,AGCセラミックス梶C椛蜊辮^空機器製作所,大阪大学,オリンパス梶C金沢工 業大学,キヤノン梶Cキヤノンアネルバ梶Cキヤノンアネルバエンジニアリング梶Cキヤノンアネルバテクニクス 梶C京都大学,芝浦メカトロニクス梶C潟Vンクロン,助川電気工業梶C潟Xピネット,成蹊大学,大亜真空梶C 千葉工業大学,中部大学,東海大学,東京大学,東洋大学,名古屋大学,鞄鉱マテリアルズ,日本真空光学梶C 日本ビクター梶C潟uリヂストン,平和電源梶Cペガサスソフトウエア梶C法政大学,都城工業高等専門学校, 村田製作所(敬称略) 参加費:1.SP部会会員           無 料     2.日本真空学会個人会員       \23,000     3.日本真空学会法人会員       \18,000     4.教育機関,公的機関に属する者   \12,000     5.学生               \ 5,000     6.一般               \28,000 申込み・問合せ先:一般社団法人 日本真空学会 TEL:03-3431-4395 FAX:03-3433-5371            e-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org