スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第133回定例研究会
テーマ：「薄膜堆積技術の応用展開」

　スパッタリングを始めとする物理堆積法は，デバイス製造や表面修飾膜など産業の
幅広い分野において利用されています．本研究会では現行品種の通信デバイスや，複
雑形状を有する部品へのスパッタリング技術の応用，耐摩耗性膜の物性・力学的特性
評価の実際といった，産業分野におけるスパッタリング技術の利用と薄膜評価に関す
る最近の動向を紹介するべく，第一線でご活躍の方々を講師としてお招きしました．
本研究会に多数の方が参加され，スパッタリングおよびプラズマプロセス分野の更な
る発展に繋がる知見が得られることを期待致します．皆様のご参加を心よりお待ち申
し上げております．

日　　時：平成25年5月23日（木）　13:00〜16:00 (受付 12:30〜)
場　　所：石川県政記念　しいのき迎賓館　ガーデンルーム
　　　　 （石川県金沢市広坂2-1-1）

講演プログラム:
「スパッタSiO2 膜を用いた表面波デバイスの温度特性改善」　
　　　　　　　　　　　　　　　　株式会社村田製作所　坂口 健二　13:00〜13:40

「膜中の水素含有量を制御したDLC（ダイヤモンドライクカーボン）膜の実用化」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　石川県工業試験場　安井 治之　13:40〜14:20

　　　　　　　　　　　　　―　休憩　―　　　　　　　　　　　　 14:20〜14:40

「ナノインデンテーション試験による硬質膜の評価方法
　　　　　　　　　　　―物性値に基づく摩耗試験条件の最適化―」　
　　　　　　　　　　　　　　富山県工業技術センター　岩坪 聡　　14:40〜15:20

「多角バレルスパッタリング技術とその応用」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　富山大学　阿部 孝之　15:20〜16:00

なお，翌日5月24日10時より金沢工業大学および付設研究所の見学会を開催致します．


参加費：1.SP部会員　　　　　　　　　　　　　　　　無　料
　　　　2.日本真空学会個人会員　　　　　　　　　　\23,000
　　　　3.日本真空学会法人会員　　　　　　　　　　\18,000
　　　　4.教育機関，公的機関に属する者　　　　　　\12,000
　　　　5.学生　　　　　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6.一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　\28,000


問合せ先：一般社団法人 日本真空学会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org