スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第10回技術交流会・　第136回定例研究会

　ＳＰ部会では，会員相互の技術情報交換の場を提供するために，技術交流会を企画しています．毎回ご好評を
いただいており，今年で10回目となります．ショートプレゼンテーションとポスター発表をあわせた形とし，か
つポスターセッションは懇親を兼ねる形といたします．通常の定例研究会では，会員相互が情報を交換する機会
がなかなかなく，せっかく同じ部会に所属していることのメリットを十分に活かせておりませんでした．この技
術交流会を機会に是非会員相互で有益な技術情報を交換していただき，会員各社のさらなる技術的発展につなが
ればと考えております．また，ショートプレゼンテーションに先立って，第136回定例研究会として2件の技術講
演を企画しております．
　部会員以外の方の参加も歓迎いたします．皆様の奮ってのご参加をお待ちしております．

日　　時：平成25年12月3日（火）　13:00-18:30
場　　所：機械振興会館　地下3階　研修-1号室
　　　　　東京都港区芝公園3-5-8（東京タワー前）

　　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

定例研究会
(1) イオンビーム手法を用いたナノ材料の低温形成
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（名古屋工業大学）種村 眞幸　13:00-13:40

(2) スパッタリングによるバッファ層を用いたCIGS太陽電池の高効率化
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（キヤノンアネルバ株式会社）佐藤 正律　13:40-14:20

　　　　　　　　　　　　　　　　 −休憩−

技術交流会
(3) ショートプレゼンテーション（8分程度×15件予定）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　14:40-16:40
(4) ポスターセッション 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　17:00-18:30



ショートプレゼンテーション（およびポスター）の発表を募集いたします．
内容については特に制限を設けません．
新製品の宣伝的な内容等でも結構です．
また，研究機関等にご所属の方の研究紹介も結構です．
発表を希望される方は，以下の期日で日本真空学会へお申し込みください．


発表申込　11月11日（月）まで（それ以後はお問合せください）
アブストラクト（A4用紙 1枚）提出　11月19日（火）まで


第1〜9回ポスター発表参加者：秋田県産業技術総合研究センター，旭硝子�梶Cアルバックテクノ�梶Cイーグ
ル工業�梶C�潟Cー･エム･ディー，ＡＧＣセラミックス�梶C�椛蜊辮^空機器製作所，大阪大学，オリンパス�梶C金沢工
業大学，キヤノン�梶Cキヤノンアネルバ�梶Cキヤノンアネルバエンジニアリング�梶Cキヤノンアネルバテクニクス�梶C
京都大学，�鰍bＯ-ＭＥＴ，芝浦メカトロニクス�梶C�潟Vンクロン，助川電気工業�梶C�潟Xピネット，成蹊大学，�潟Z
ントラル硝子，大亜真空�梶C千葉工業大学，中部大学，東海大学，東京大学，東洋大学，名古屋大学，�鞄�鉱マテリ
アルズ，日本真空光学�梶C日本ビクター�梶C�潟uリヂストン，平和電源�梶Cペガサスソフトウエア�梶C法政大学，
�潟zンダロック，都城工業高等専門学校，�椛ｺ田製作所（敬称略）

参加費：1.ＳＰ部会会員　　　　　　　　　　　無　料
　　　　2.日本真空学会個人会員　　　　　　　\23,000
　　　　3.日本真空学会法人会員　　　　　　　\18,000
　　　　4.教育機関，公的機関に属する者　　　\12,000
　　　　5.学生　　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6.一般　　　　　　　　　　　　　　　\28,000

申込み・問合せ先：一般社団法人 日本真空学会　TEL：03-3431-4395　FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org