今回は，2014年度に本学会に加盟された法人企業から，主にサポイン(平成22年度)に採択されたパーマロイ製
　超高真空容器の生産技術の開発に関わるご講演と，もう一つは，半導体産業のウェハ大口径化の動向とは真逆の
　ハーフインチウェーハを製造基板単位とする『革新的半導体製造生産システム（ミニマルファブ）』の開発責任
　者のご講演です．皆さま多数のご参加をお待ち申し上げます．


　日　時：平成 26（2014）年 5月 14日（水）14:00〜16:30
　場　所：機械振興会館（芝公園）　B3−1号室（地下3階）
　参加費：無料

　　　　　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

　開会挨拶　　　　　　　　　　　　　（日本真空学会　産学連携委員会　委員長）　土岐　和之　14:00〜14:10

　1. 新たな超高真空容器の製作へ挑んだ技術集団
　　　　　　　　　　　　　　　　（(株)ＶＩＣインターナショナル　代表取締役）　竹内　幸雄　14:10〜15:10

　　［講演要旨］

　　現在では弊社の主力製品となったパーマロイ製チャンバ．光電子分光装置の更なる分解能力向上の為，我々は難切削，
　難溶接と言われた高透磁率材料の代表である“パーマロイ製チャンバ”の製作方法を確立すべく技術開発に取り組んで
　きた．「会社は社員と共に成長する」という企業理念の下，大きく成長を遂げた3年間の軌跡をご紹介いたします．

　　　　　　　　　　　　　　　　　　休　　憩（15:10〜15:30）

　2. ミニマルファブ構想とその開発の現状
　　　　　　　　　　　（(独)産業技術総合研究所　ナノエレクトロニクス研究部門
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ミニマルシステムグループ長）　原　史朗　15:30〜16:30

　　［講演要旨］

　　ファブの巨大投資問題を回避し，少量デバイスユーザに適した超小型半導体生産システム〜ミニマルファブ構造を2005年
　から提唱し，実際にその具現化システムを開発してきた．この新しいファブは，(1) 直径12.5mmのウェハ，(2) 30cm幅に規
　格化されたプロセス装置群，(3)局所クリーン化搬送システムによるクリーンルームフリー化で特徴づけられる．当日は，
　そのコンセプトからおよそ100社との開発状況までをお話する．


　　講演終了後，講師をお招きして交流会（会費2,000円）を開催します．講師への質問，相互の情報交換等，有意
　義なディスカッションができますので，こちらにも多数ご参加下さい．
　なお，例会・交流会に参加ご希望の方は，準備の都合上，事前に事務局宛ご連絡頂きますようお願いいたします．


　申込み・問合せ先：一般社団法人 日本真空学会　事務局
　　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3433-5371
　　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org