スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第139回定例研究会
テーマ：「新・省エネルギーに貢献する技術開発」

　再生可能エネルギーの安定的な利用へ向けた新・省エネルギー技術開発は，最重要課題
となっています．また，希少金属の利用削減や環境に配慮した材料開発も求められていま
す．本研究会では，これらの技術開発に貢献する薄膜コーティングや関連技術の中から，
太陽電池，透明導電膜，スマートガラス等に関する現在進展中のトピックスを取り上げ，
第一線でご活躍の先生方を講師としてお招きしました．本研究会に多数の方が参加され，
スパッタリングおよびプラズマプロセス分野の更なる発展につながる知見が得られること
を期待します．皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます．

日　　時：平成26年8月28日（木）　13:00〜16:40 (受付 12:30〜)
場　　所：機械振興会館　地下3階　B3-6号室
　　　　 （東京都港区芝公園3-5-8）

講演プログラム:
「酸化亜鉛透明導電膜：低温成膜技術の現状と課題」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　 高知工科大学　山本 哲也　　13:00〜13:40

「シリコン系太陽電池の高効率化に向けたプラズマＣＶＤ技術」　
　　　　　　　　　　　　　　　 産業技術総合研究所　布村 正太　　13:40〜14:20

「ナノ構造体の形状制御と太陽電池応用」　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　名古屋大学　星　裕介　　14:20〜15:00

　　　　　　　　　　　　　―　休憩　―　　　　　　　　　　　　　15:00〜15:20

「建物の省エネにつながる調光ミラーガラスの実用化に向けて」　
　　　　　　　　　　　　　　　 産業技術総合研究所　山田 保誠　　15:20〜16:00

「高効率Siヘテロバックコンタクト構造太陽電池の開発」　
　　　　　　　　　　　　　　　　 シャープ株式会社　岡本 親扶　　16:00〜16:40


参加費：1.SP部会員　　　　　　　　　　　　　　　　無　料
　　　　2.日本真空学会個人会員　　　　　　　　　　\23,000
　　　　3.日本真空学会法人会員　　　　　　　　　　\18,000
　　　　4.教育機関，公的機関に属する者　　　　　　\12,000
　　　　5.学生　　　　　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6.一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　\28,000


問合せ先：一般社団法人 日本真空学会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org