スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第11回技術交流会・第141回定例研究会
＜ポスター発表募集中＞

　SP部会では，会員相互の技術情報交換の場を提供するために，技術交流会を企画しています．毎回ご好評を
いただいており，今年で11回目となります．ショートプレゼンテーションとポスター発表をあわせた形とし，
かつポスターセッションは懇親を兼ねる形といたします．通常の定例研究会では，会員相互が情報を交換する
機会がなかなかなく，せっかく同じ部会に所属していることのメリットを十分に活かせておりませんでした．
この技術交流会を機会に是非会員相互で有益な技術情報を交換していただき，会員各社のさらなる技術的発展
につながればと考えております．また，ショートプレゼンテーションに先立って，第141回定例研究会として
2件の技術講演を企画しております．
講演内容はパルスレーザ堆積法及び低温プラズマALD（Atomic Layer Deposition）法による薄膜堆積に関する
もので，大学及び企業からご講演を頂きます．今後の医療や産業応用への拡がりが大いに期待されるものです．
部会員以外の方の参加も歓迎いたします．皆様の奮ってのご参加をお待ちしております．
なお，ポスター発表者の当日（定例研究会と技術交流会）の参加費は無料です．

日　　時：平成26年12月4日(木)　13:00-18:30
場　　所：機械振興会館　地下2階　B2-1号室
　　　　　 東京都港区芝公園3-5-8（東京タワー前）

　　　　　　　　　　　　　　　−プログラム−

定例研究会
(1) パルスレーザ堆積法を用いた生体セラミックス薄膜の高品質化および高機能化
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（近畿大学生物理工学部）西川 博昭　13:00-13:40

(2) 低温プラズマALD による樹脂への成膜
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（株式会社昭和真空）吉田 武史　13:40-14:20

　　　　　　　　　　　　　　　　 −休憩−

技術交流会
(3) ショートプレゼンテーション（交代時間含め7分程度×15件予定）　　　　　　　　14:40-16:30
(4) ポスターセッション 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　16:45-18:30



ポスター発表を募集いたします．


ポスター発表のみでも結構ですが，できるだけショートプレゼンもお願い致します.
発表内容については特に制限を設けません．新製品の宣伝的な内容，困り事や相談的な内容でも結構です.
研究機関等にご所属の方の研究紹介も歓迎します.
発表を希望される方は，申込用紙にご記入の上，以下の期日で日本真空学会へお申し込みください．


発表申込：11月10日(月)まで（それ以後はお問合せください）
アブストラクト（A4用紙1枚）提出：11月20日(木)まで


第1〜10回ポスター発表参加者：（五十音順）
　大阪大学，金沢工業大学，京都大学，信州大学，成蹊大学，千葉工業大学，中部大学，東海大学，
　東京大学，東洋大学，名古屋大学，兵庫県立大学法政大学，AGC セラミックス�梶C�海OMET，
　秋田県産業技術総合研究センター，旭硝子�梶C�潟Aルバック，アルバックテクノ�梶C�潟Cー･エム･ディー，
　イーグル工業�梶C�椛蜊辮^空機器製作所，オリンパス�梶Cキヤノン�梶Cキヤノンアネルバ�梶C
　芝浦メカトロニクス�梶C�鰹ｺ和真空，�潟Vンクロン，助川電気工業�梶C�潟Xピネット，セントラル硝子�梶C
　大亜真空�梶C�鞄�鉱マテリアルズ，日本真空光学�梶C日本ビクター�梶C�潟uリヂストン，
　平和電機�梶i旧称：平和電源），ペガサスソフトウエア�梶C�潟zンダロック，都城工業高等専門学校，
　�椛ｺ田製作所

参加費：1. SP部会会員　　　　　　　　　　　　無　料
　　　　2. 日本真空学会個人会員　　　　　　　\23,000
　　　　3. 日本真空学会法人会員　　　　　　　\18,000
　　　　4. 教育機関，公的機関に属する者　　　\12,000
　　　　5. 学生　　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6. 一般　　　　　　　　　　　　　　　\28,000
　　　　7. ポスター発表者　　　　　　　　　　無　料

申込み・問合せ先：一般社団法人 日本真空学会
　　　　　　　　　　TEL：03-3431-4395　FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org