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| 12：30～12：35 | 開会挨拶 |
| 佐藤 弘悦 （日本真空工業会 展示委員会フォーラム・セミナー小委員会担当理事） | |
| 12：35～13：20 | 講演「なかなか聞けない膜の話」 |
| 荒川 一郎 | |
| （学習院大学 副学長・理学部物理学科 教授，一般社団法人日本真空学会 会長） | |
| 要旨： | 多くの方の親しんでいる膜は，金属蒸着膜などのような「固い膜」あるいは言い方を変えると「一度できたらそのままの形を保持する膜」だと思います．私の話は「柔らかい膜」，「周囲の環境の変化によって形態を変える膜」に関するものです．具体的には低温の結晶表面に物理吸着した気体の層です．その層（膜）の形態を決めるのは，面の温度とそれと接する気相の気体の圧力で，その間の平衡の下に膜が存在します．温度が下がる，あるいは圧力が上がれば膜は成長し，温度が上がる，あるいは圧力が下がれば膜は消滅します．その様な膜が示す興味深い振る舞いを紹介します． |
| 13：20～14：05 | 講演「デバイス開発のための表面界面分析技術と薄膜材料評価」 | |
| 大岩 烈 | ||
| （シエンタオミクロン株式会社 代表取締役社長，公益社団法人日本表面科学会 副会長） | ||
| 要旨： | 薄膜プロセスによる各種デバイス開発において，薄膜の物性や特性等の評価技術および薄膜・界面分析技術は必須な技術です．ここでは，デバイス開発における表面・界面分析技術の役割と動向から，表面・界面分析技術，微量分析技術，微小領域分析技術，深さ方向分析技術ならびに分析評価技術の将来展望までを解説します．併せて，最新のナノインデンテーション装置を用いて測定した薄膜の力学特性の結果を解説します． | |
| 14：05～14：50 | 講演「薄膜の表面・界面への元素偏析現象や仕事関数の予測：マテリアルキュレーション」 | |
| 吉武 道子 | ||
| （国立研究開発法人物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点 半導体デバイス材料グループ 主席研究員，お茶の水女子大学 客員教授） |
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| 要旨： | 薄膜の表面や界面に特定の元素が濃縮する現象の系依存性，半導体デバイスのショットキーバリア高さを左右するデバイス‐電極界面の結合，電極となる遷移金属炭化物などの仕事関数，などの予測方法について簡単に紹介します．これらの予測方法は，講演者の提唱する「マテリアルキュレーション」という，科学法則を含む材料情報を俯瞰的・分野横断的に活用して材料探索指針を見つける手法により開発されました．講演では，この手法を汎用化するために開発中のツールについてもお話しします． | |
| 14：50～15：35 | 講演「薄膜を見える化する『SPMによる表面・断面観察と物性評価』」 | |
| 粉川 良平 | ||
| （株式会社島津製作所 分析計測事業部グローバルアプリケーション開発センター 顕微鏡担当マネージャー，公益社団法人日本表面科学会 常務理事） |
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| 要旨： | 走査型プローブ顕微鏡（SPM）は発明から30年が経ち，その応用は微小形状の観察だけでなく，膜の硬さや粘弾性，電磁気特性などの物性評価に拡がっています．さらに，それらを様々な雰囲気下で行うことが可能となり，実際に材料が曝される環境での測定が期待されています．本講演では，最先端のSPM装置や複合装置を紹介し，膜の多面的解析をガス雰囲気中や溶液中で行った応用例を通じて，SPM関連技術を展望します． | |
| 15：35～15：40 | 閉会挨拶 | |
| 入江 則裕 （一般社団法人日本真空学会 産学連携委員会 委員長） | ||
2）休憩時間は特に設けません．
15：40～閉会後30分程度，各講師の方との名刺交換及び個別質疑時間を設けます．
TEL： 03-3431-4395 E-mail： ofc-vsj＠vacuum-jp.org
日本真空工業会
TEL： 03-3459-1228 E-mail： info@jvia.gr.jp
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