スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第149回定例研究会
テーマ：「MEMS技術の今後の展開」

　集積化MEMSは，次世代のデバイス・システムの成長原動力として最近注目を集めています．本研究会では，MEMSの材料，プロセス，デバイス構造，実装技術，高歩留まり技術などを視野に入れ，基礎研究から実用化に至るまでの様々な段階に関する活発な議論の場としたいと思います．
　本研究会ではこれらに関する最新技術，応用，製品化の視点から，大学，研究機関及びメーカーから最前線で活躍中の講師をお招きします．本研究会に多数の方が参加され，スパッタリングおよびプラズマプロセス分野の更なる発展，製品化につながる知見が得られることを期待します．多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます．

日　時：　2016年8月29日（月） 13:00～16:40（受付12:30～）
場　所：　機械振興会館　地下3階 B3-1号室
　　　　　　東京都港区芝公園3-5-8　　交通アクセス

講演プログラム：

　「MEMSのトレンド」 　　 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 （東北大学大学院）　田中　秀治　13:00～13:40

　「自動車用MEMS技術　製品と今後」　　　　 　　　　　　　　　　　　　　（デンソー　基礎研究所）　竹内　幸裕　13:40～14:20

　「機能性材料薄膜を用いたMEMS製造技術」　　　　　　（アルバック　半導体電子技術研究所）　神保　武人　14:20～15:00

　　　　 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　－休憩－　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 15:00～15:20

　「ガラス基材を用いたMEMS加工技術について」　　　　　　　　（大日本印刷　MEMSセンター）　浅野　雅朗　15:20～16:00

　「MNOICの取り組みと振動発電子用圧電膜のスパッタ成膜について」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 （マイクロマシンセンター）　野田　大二　16:00～16:40

参加費： 当日受付にてお支払いください．
　　　　　　1．SP部会員　　　　　　　　　　　　　　　　 無　料
　　　　　　2．日本真空学会正会員　　　　　　　　　 ￥23,000
　　　　　　3．日本真空学会法人会員　　　　　 　　 ￥18,000
　　　　　　4．教育機関，公的機関に属する者　　　￥12,000
　　　　　　5．学生　　　　　　　　　　　　　　　　　 　　￥5,000
　　　　　　6．一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　￥28,000

申込方法：　申込みは終了しました．

問合せ先：　一般社団法人日本真空学会　TEL： 03-3431-4395，FAX： 03-3433-5371
　　　　　　　　　　　　 　　　　　　　　　　　　　　E-mail：　ofc-vsj@vacuum-jp.org