スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第142回定例研究会
テーマ：反応性スパッタで作製した窒化物のデバイス応用

　再生可能エネルギーの安定的な利用へ向けた新・省エネルギー技術開発は，最重要課題
　スパッタリングによる金属窒化物膜の作製は，超硬コーティング用途には既に多くの実
績がありますが，最近では電気・電子デバイスに応用される窒化物膜にもスパッタリング
が適用される例が増えてきました．本企画では，様々なデバイスへと応用される，新規な
窒化物薄膜のスパッタリング製膜に従事されている先生方をお招きして研究・開発の最前
線についてお話を伺い，今後の可能性について議論する場としたいと思います．

日　　時：平成27年3月9日(月)　13:10～16:45 (受付 12:40)
場　　所：機械振興会館　地下3階　B3-6号室
　　　　 （東京都港区芝公園3-5-8）

講演プログラム:
「スパッタ法で作製したアモルファス窒化炭素薄膜の光誘起体積変化」
　　　　　　　　　　　　（防衛大学校 機能材料工学科）青野 祐美　13:10～13:50

「TaAlN膜の作製と応用」　
　　　　　　　　　　　　　　　 （小川創造技術研究所）小川 倉一　13:50～14:30

「斜め堆積スパッタリングによる微細構造化エレクトロクロミックInN薄膜の作製」

　　　　　 （千葉工業大学 工学部 機械サイエンス学科）井上 泰志　14:30～15:10

　　　　　　　　　　　　　―　休憩　―　　　　　　　　　　　　　15:10～15:25

「反応性スパッタ法で作製した高移動度Zn3N2薄膜」　
　　　　　　　　　　　 （中部大学 工学部 応用化学科）山田 直臣　15:25～16:05

「AlN薄膜圧電体とその応用を目指した取り組みについて」　
　　　（産業技術総合研究所 生産計測技術研究センター）田原 竜夫　16:05～16:45


参加費：1.SP部会員　　　　　　　　　　　　　　　　無　料
　　　　2.日本真空学会個人会員　　　　　　　　　　\23,000
　　　　3.日本真空学会法人会員　　　　　　　　　　\18,000
　　　　4.教育機関，公的機関に属する者　　　　　　\12,000
　　　　5.学生　　　　　　　　　　　　　　　　　　\ 5,000
　　　　6.一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　\28,000


問合せ先：一般社団法人 日本真空学会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org