スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第144回定例研究会
テーマ：「HIPIMSの最近の技術動向」

スパッタ粒子をイオン化し成膜するHIPIMS成膜は大電流パルス電源の開発とともに2000年代初めから開発が行われてきました．ヨーロッパを中心として，近年その用途が大きく広がる可能性が出てきました．ISSP2015においても多くの研究者がその可能性に言及しておりました．本研究会では電源メーカーや応用開発の視点から講師をお招きし，更に内容を掘り下げて頂ければと思います．本研究会に多数の方が参加され，スパッタリングおよびプラズマプロセス分野の更なる発展につながる知見が得られることを期待します．皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます．

日時：平成27年8月26日（水） 13:00～16:40（受付12:30～）
場所：機械振興会館　B3－2号室（地下3階）  東京都港区芝公園3-5-8

講演プログラム:
「Recent Development in HIPIMS Technology for Sputtering Thin Films」
                          （メンテナンス・リサーチ（株）　セールス＆マーケティングディレクター）　清水 博康　13:00～13:40
 
「生産規模でのプラズマイオンプロセスの比較」　
                                             （（株）神戸製鋼所 機械事業部門 高機能商品部）　廣田 悟史　　13:40～14:20
 
「高出力パルスマグネトロンスパッタリング法による硬質皮膜の適用」
                             （日立金属（株）　冶金研究所 基盤技術研究グループ）　アブスアイリキ サーレ　14:20～15:00
 
                                                         ―　休憩　―                                            15:00～15:20
 
「TruPlasma HighPulse signal advantage」　　（トルンプ・ヒュティンガ（株））　Dr. Pawel Ozimek　 15:20～16:00
 
「1インチマグネトロンスパッタソースによるHIPIMSの開発とミニマルファブへの応用」
              （産業技術総合研究所 製造技術研究部門 積層加工システム研究グループ）　小木曽 久人　16:00～16:40
 

参加費：当日受付にてお支払いください．

 
申込方法：申込みは終了しました。
 
問合せ先：一般社団法人 日本真空学会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org