スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第145回定例研究会
テーマ：「ディスプレイ，太陽電池用薄膜プロセスの最新技術と量産への応用」

  スマートフォン，タブレット，4K8K-TV等により高精細ディスプレイが求められる今日，より高移動度のTAOSの開発も活発化しています．また，結晶太陽電池もヘテロジャンクション型，バックコンタクト型など高効率化を目指した研究開発が盛んになっています．本研究会ではこれらに関する最新技術，応用，製品化の視点から，大学，研究機関及びメーカーから最前線で活躍中の講師をお招きします．本研究会に多数の方が参加され，スパッタリングおよびプラズマプロセス分野の更なる発展，製品化につながる知見が得られることを期待します．本研究会はオープン研究会と位置づけ参加しやすい参加費としました．多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます．

日時：平成27年10月14日（水） 13:00～16:40（受付12:30～）
場所：機械振興会館　研修-2号室（地下3階）  東京都港区芝公園3-5-8  交通アクセス

講演プログラム:
「フラットパネルディスプレイ向け大面積スパッタリングカソード」                  （アルバック）　小林　大士　13:00～13:40
 
「アモルファス酸化物半導体の製膜条件、欠陥とTFT特性」　
                                                           （東工大）　神谷　利夫，雲見　日出也，細野　秀雄　13:40～14:20
 
「高機能薄膜用ターゲット材料について」                                     （住友金属鉱山）　 佐藤　啓一　14:20～15:00
 
                                                             ―　休憩　―                                        15:00～15:20
 
「太陽電池開発における導電性酸化物薄膜」                            （産業技術総合研究所）　鯉田　崇　15:20～16:00
 
「Cat-CVD技術とその結晶Si系太陽電池応用」              （北陸先端科学技術大学院大学）　大平　圭介　16:00～16:40
 

参加費：当日受付にてお支払いください．

 
申込方法：申込みは終了しました．
 
問合せ先：一般社団法人 日本真空学会　TEL：03-3431-4395，FAX：03-3433-5371
e-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org