スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第147回定例研究会
テーマ：「光学薄膜の堆積技術の進展と応用展開」

 
  光学薄膜は幅広い産業で実用化されているところですが，その成膜技術や薄膜物性制御の進展は留まることなく続いています．最近では，多彩な機能を有する薄膜や光学窓への機能修飾，電子デバイスにおける高機能光学薄膜の堆積など，技術革新が絶えることなく進展しており，新規な薄膜堆積法の技術開発も日々続いている分野です．本研究会では光学薄膜の基礎物性及び堆積方法，光学薄膜の応用において第一線で活躍中の研究者・技術者をお招きしました．多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます．

日　時：　2016年3月10日（木） 13:00～16:40（受付12:30～）
場　所：　機械振興会館　B3-6号室（地下3階）
　　　　　　東京都港区芝公園3-5-8　交通アクセス

講演プログラム：
「光学薄膜の光散乱の要因と評価」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　　　　（東海大学）　室谷 裕志　　13:00～13:40

「フッ化マグネシウムナノ粒子を用いた超低屈折率膜の開発」　　　　　　　　　　　（（株）ニコン）　 村田 剛　 　13:40～14:20
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
「RAS（Radical Assisted Sputtering）の新しい技術展開」　　　　　　　　（（株）シンクロン） 宮内 充祐　　14:20～15:00
 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　－休憩－　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　15:00～15:20
 
「固体ソースECRプラズマ成膜装置の特徴と応用分野」　　　　　　　　　　　　（JSWアフティ（株））　嶋田 勝 　15:20～16:00

「ボールペン技術による光コリメータの開発」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（三菱鉛筆（株））　 三井 章仁 　16:00～16:40

参加費： 当日受付にてお支払いください．
　　　　　　1．SP部会員　　　　　　　　　　　　　　　 無　料
　　　　　　2．日本真空学会個人会員　　　　　　　 ￥23,000
　　　　　　3．日本真空学会法人会員　　　　　　　 ￥18,000
　　　　　　4．教育機関，公的機関に属する者　　 ￥12,000
　　　　　　5．学生　　　　　　　　　　　　　　　　　　　￥5,000
　　　　　　6．一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　　￥28,000

 
申込方法：　申込みは終了しました．

問合せ先：　一般社団法人日本真空学会　TEL：　03-3431-4395，FAX：　03-3433-5371
　　　　　　　　　　　　 　　　　　　　　　　　　　　E-mail：　ofc-vsj@vacuum-jp.org