2016年　第63回　応用物理学会春季学術講演会シンポジウム
主題　「真空・減圧プロセスにおける気体の流れの解析」

　プロセス装置等の真空容器やガス導入管内での気体の流れの解析・シミュレーションをテーマとするシンポジウム「真空･減圧プロセスにおける気体の流れの解析」を開催します．
　半導体プロセス、FPD プロセスなどの開発に携わる皆様方の多くは，真空や減圧環境下にあるプロセス装置を日頃から駆使して仕事を進めていらっしゃいますが，装置内での気体の流れは物質移動（輸送）の基本として重要であるものの，その挙動の詳細な把握は未だ難しいものがあります．特に，気体の分子間相互作用の大小によって粘性流・中間流・分子流に分類した際に，プロセス装置内の気体分子の流れは理論計算のみではすぐに答えの出ない中間流領域であることが多く，また，実プロセスにおいては中間流の多用に移行していることもあり，流れとその理解については理論･シミュレーション･計測･プロセス制御の何れからも多くの課題があります．
　そこで本シンポジウムでは，分子流・中間流・粘性流に亘る理論及びシミュレーションを網羅する講演で構成し，実測およびシミュレータの開発と応用に関わった講演者の皆様にそれぞれの成果を解説いただき，真空･減圧プロセスにおける予測に基づく制御の可能性について考えてみたいと思います．

日　　時： 2016年3月20日（日） 14：00～17：30　（予定）
会　　場： 東京工業大学 大岡山キャンパス （東京都目黒区大岡山） 　講演会場 W621 （西6号館）
　　　　　　　※参加には，応用物理学会春季学術講演会への参加登録が必要です．
　　　　　　　　　http://meeting.jsap.or.jp/registration.html
世 話 人： 中村 健（産総研）*，守山佳彦（東芝），山田洋一（筑波大）　 （*代表世話人）

講演プログラム：

「真空・減圧プロセスにおける気体の流れの解析 イントロダクトリートーク（15分）」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（産総研¹，物材機構²）　○吉田 肇¹，板倉明子²　 14：00～14：15

「気体分子流の基礎理論と数値解析」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（東京電機大）　○松田七美男　 14：15～14：45

「モンテカルロ法による加速器ビームダクト内の圧力分布計算例」　　　　　　　　　　（高エネ研）　○谷本育律　 14：45～15：15

「熱CVD過程のモデル化」　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（東海大工）　○秋山泰伸　 15：15～15：45

「粒子法による希薄気体流れとプラズマシミュレーション」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（（株）ウェーブフロント）　○和田隆生，佐橋一裕，塩谷明美　 16：00～16：30

「プラズマプロセスにおけるシミュレーション」　　　　　　　　　　　　　　　　（ペガサスソフトウェア）　○松永史彦　 16：30～17：00

「スパッタリングシステム内における圧力分布、および圧力変化の実測」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（岡野製作所¹，小川創研²，大阪市立大³）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　○田尻修一¹，大西孝則¹，岡野夕紀子¹，小川倉一²，美馬宏司³　 17：00～17：30
 
お問合先：　応用物理学会　TEL: 03-5802-0861　FAX: 03-5802-6250
　　　　　　　　日本真空学会　TEL: 03-3431-4395　FAX: 03-3433-5371
　　　　　　　　E-mail: ofc-vsj@vacuum-jp.org  URL: http://www.vacuum-jp.org

本件協力：日本真空学会講演・研究会企画委員会　
　　　　　　　担当：板倉明子（物材機構），吉田 肇（産総研），高橋直樹（サムスン日本研），中村健（産総研）