スクールコース
薄膜の基本技術講座
－VACUUM2016 真空展併催－

日時・会場・定員：　9月7日（水）　15:00～17:00　　パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204号室　　定員54名
　　　　　　　　　　　　　9月8日（木）　15:00～17:00　　パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204号室　　定員54名
　　　　　　　　　　　　　9月9日（金）　15:00～17:00　　パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204号室　　定員54名

主　催：　一般社団法人日本真空学会

参加のおすすめ：
　薄膜作製技術は真空工学の重要な応用です．本講座では真空とプラズマを用いた成膜技術として，真空蒸着法とスパッタリング法に関する基礎的な解説を行います．それぞれの手法の原理について簡単に紹介した後，真空装置の到達圧力が薄膜の不純物混入に与える影響や，基板温度・（スパッタリングにおける）プロセス圧力などの成膜パラメータが，成膜過程および得られる薄膜の構造・組成にどのように影響するかについて解説します。また，プラズマを制御した最新の成膜手法についても，講師が実際に行ってきた研究を含めていくつか紹介します．

聴講料（テキスト代，消費税込み）：　一般4,000円，学生1,000円　　※当日受付にてお支払いください．

テキスト：　講義で使用するPPTファイルを印刷したもの

講師（予定）：　中野 武雄（成蹊大学・日本真空学会教育委員会委員）

問合せ先：　一般社団法人日本真空学会
　　　　　　　 TEL：03-3431-4395　FAX：03-3433-5371
　　　　　　　 E-mail：ofc-vsj@vacuum-jp.org

申込方法：　申込みを終了しました．

講義内容（講義2時間，質疑を含む）：
　1．真空蒸着法・スパッタリング法の原理
　2．成膜装置の到達圧力と膜の不純物
　3．薄膜の構造制御～基板温度・堆積粒子エネルギーの効果
　4．スパッタリング成膜のプロセス圧力と膜組成・膜構造
　5．大電力パルススパッタリングによる薄膜構造制御