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VACUUM2016 真空展:スクールコース「薄膜の基本技術講座」

2016年9月7日 @ 15:00 - 2016年9月9日 @ 17:00


スクールコース
薄膜の基本技術講座
-VACUUM2016 真空展併催-

日時・会場・定員: 9月7日(水) 15:00~17:00  パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204号室  定員54名
             9月8日(木) 15:00~17:00  パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204号室  定員54名
             9月9日(金) 15:00~17:00  パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204号室  定員54名

主 催: 一般社団法人日本真空学会

参加のおすすめ
 薄膜作製技術は真空工学の重要な応用です.本講座では真空とプラズマを用いた成膜技術として,真空蒸着法とスパッタリング法に関する基礎的な解説を行います.それぞれの手法の原理について簡単に紹介した後,真空装置の到達圧力が薄膜の不純物混入に与える影響や,基板温度・(スパッタリングにおける)プロセス圧力などの成膜パラメータが,成膜過程および得られる薄膜の構造・組成にどのように影響するかについて解説します。また,プラズマを制御した最新の成膜手法についても,講師が実際に行ってきた研究を含めていくつか紹介します.

聴講料(テキスト代,消費税込み): 一般4,000円,学生1,000円  ※当日受付にてお支払いください.

テキスト: 講義で使用するPPTファイルを印刷したもの

講師(予定): 中野 武雄(成蹊大学・日本真空学会教育委員会委員)

問合せ先: 一般社団法人日本真空学会
        TEL:03-3431-4395 FAX:03-3433-5371
        E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org

申込方法: 申込みを終了しました.

講義内容(講義2時間,質疑を含む)
 1.真空蒸着法・スパッタリング法の原理
 2.成膜装置の到達圧力と膜の不純物
 3.薄膜の構造制御~基板温度・堆積粒子エネルギーの効果
 4.スパッタリング成膜のプロセス圧力と膜組成・膜構造
 5.大電力パルススパッタリングによる薄膜構造制御

詳細

開始
2016年9月7日 @ 15:00
終了
2016年9月9日 @ 17:00
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主催者

日本真空学会