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スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 第13回技術交流会・第151回定例研究会
2016年12月8日 @ 13:00 - 18:30
スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)
第13回技術交流会・第151回定例研究会
SP部会では,会員相互の技術情報交換の場を提供するために,技術交流会を企画しています.毎回ご好評をいただいており,今年で13回目となります.ショートプレゼンテーションとポスター発表をあわせた形とし,かつポスターセッションは懇親を兼ねる形といたします.通常の定例研究会では,会員相互が情報を交換する機会が限定され,せっかく同じ部会に所属していることのメリットを十分に活かせておりませんでした.この技術交流会を機会に是非会員相互で有益な技術情報を交換していただき,会員各社のさらなる技術的発展につながればと考えております.
また,ショートプレゼンテーションに先立って,第151回定例研究会として2件の技術講演を企画しております.是津先生にはプラズマ反応場を利用したナノマテリアルの三次元加工に関する研究成果を紹介していただき,渕先生にはガラス蛍光体の広帯域赤外発光特性などの研究成果を紹介していただきます.
部会員以外の方の参加も歓迎いたします.皆様の奮ってのご参加をお待ちしております.なお,ポスター発表者の当日(定例研究会と技術交流会)の参加費は無料です.
日 時: 2016年12月8日(木) 13:00~18:30
場 所: 機械振興会館 地下2階 B2-1 号室
東京都港区芝公園3-5-8(東京タワー前) 交通アクセス
プログラム:
定例研究会
(1)プラズマ反応場を利用したナノマテリアルの三次元加工
是津 信行 信州大学 環境・エネルギー材料科学研究所 13:00~13:40
(2)近赤外広帯域光源用ガラス蛍光体の開発
渕 真悟 青山学院大学 理工学部電気電子工学科 13:40~14:20
―休憩―
技術交流会
(3)ショートプレゼンテーション(5件) 14:40~16:40
(4)ポスターセッション 17:00~18:30
① 医療用DLC 成膜を実現するパルススイッチ技術の応用によるHiPIMS プロセス制御
1)東京電子株式会社,2)岡山理科大学技術科学研究所 ○黒岩 雅英1),岡野 忠之1),山本 耕平2),中谷 達行2)
② 耐放射線FEA撮像素子の開発~福島第一原子力発電所の燃料デブリ取り出し工程への参画を目指して~
1)京都大学,2)産業技術総合研究所,3)静岡大学,4)木更津工業高等専門学校,5)大阪府立大学
○後藤 康仁1),長尾 昌善2),増澤 智昭3),根尾 陽一郎3),三村 秀典3),
岡本 保4),秋吉 優史5),佐藤 信浩1),高木 郁二1)
③ 熱反射壁を用いたスパッタリング法によるCu2ZnSnS4薄膜太陽電池
光吸収層堆積における放電ガスへの水素添加の影響 金沢工業大学高度材料科学研究開発センター 草野 英二
④ 反応性スパッタ法によるガラス基板上へのZnO及びVO2薄膜の積層堆積と電気的特性
東海大学工学部 ○星野 寛明,佐藤 賢太,沖村 邦雄
⑤ 「真空に関する連合講演会のオーガナイズドセッション」の開催報告 東海大学工学部 沖村 邦雄
参加費: 当日会場にてお支払いください.
1. SP部会会員 無料
2. 日本真空学会個人会員 ¥23,000
3. 日本真空学会法人会員 ¥18,000
4. 教育機関,公的機関に属する者 ¥12,000
5. 学生 ¥5,000
6. 一般 ¥28,000
7. ポスター発表者 無料
申込方法: 申込みは終了しました.
問合せ先: 一般社団法人日本真空学会 TEL:03-3431-4395 FAX:03-3433-5371
E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org
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