スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP 部会）
平成28年度技術講習会

　日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会では，毎年，技術講習会を開催しております．平成28年度は，下記のとおり，プロセス用プラズマの生成・計測・応用について徹底的に解説いたします．スパッタリングや各種プラズマプロセスに携わる若手・中堅技術者に最適な講習会です．多数のご参加をお待ち申し上げます．

日　時：　2016年12月9日（金） 午前10:00～12:00
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 午後1:00～ 4:30

場　所：　機械振興会館　地下3階　研修2号室（東京都港区芝公園3-5-8）交通アクセス

講　師：　中村 圭二（中部大学工学部　電気システム工学科　教授）

題　目：　プロセス用プラズマの生成・計測・応用

講義内容：　
　1. プラズマ生成
　　1.1 プラズマの構成粒子
　　1.2 プラズマの電位とシース形成
　　1.3 荷電粒子およびラジカルの生成と維持
　　1.4 プラズマの各種生成法
　　　　（直流放電，静電結合型高周波プラズマ，誘導結合型高周波プラズマ，マイクロ波プラズマ）
　2. プラズマのプロセスへの応用
　　2.1 プロセスにおけるプラズマの役割
　　2.2 プラズマに曝された表面での現象
　　　　（堆積，エッチング，スパッタリング，注入）
　　2.3 実際のプロセス例
　3. プラズマ計測
　　3.1 電気的手法～ラングミュアプローブ
　　3.2 波動的手法～表面波プローブ（プラズマ吸収プローブ）
　　3.3 光学的手法～発光分光法，アクチノメトリ法，吸収分光法
　　3.4 粒子的手法～質量分析法，出現質量分析法

受講料：　テキスト代と昼食代を含みます．
　　　　　　 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会会員　　10,000円
　　　　　　 日本真空学会会員　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　30,000円
　　　　　　 一般　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 40,000円
　　　　　　 学生　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 5,000円

定　員：　30名（先着順にて定員になり次第締め切らせていただきます．）

申込方法：　申込みは終了しました．

問合せ先：　一般社団法人日本真空学会　TEL：03-3431-4395　FAX：03-3433-5371
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 E-mail：ofc-vsj＠vacuum-jp.org