スクールコース
薄膜の基本技術講座
ドライプロセスによる表面処理のための真空・ガス制御技術
－VACUUM2017 真空展併催－

日　時

9月6日（水）　15:00～17:00

会　場

パシフィコ横浜　展示ホール2階 会議室E204号室

定　員

54名

主　催

一般社団法人日本真空学会

参加のおすすめ

表面清浄，薄膜作製などをドライプロセスで実施する行程は，各種の機能素子の製造に必須です．本講座では，このドライプロセスの中で特に重要な真空技術およびガス制御技術に関して初歩から解説いたします．特に，生産現場に従事する技術者を教育する立場を経験してきた講師の視点から，技術者が誤り易い点に配慮し，現場に役立つ「こつ」をまとめました．
今回，改めてドライプロセスにおける真空の必要性を3つの視点から整理するとともに，ガス制御技術を含めて機能素子の製造に必要な品質の創出と再現性の確保を中心に解説いたします．

聴講料（テキスト代、消費税込み）

一般5,000円，学生1,000円　　※当日受付にてお支払いください．

テキスト

講義で使用するプレゼンテーションファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したものを当日配布します．

講　師

関口　敦（工学院大学・日本真空学会教育委員会委員長）

問合せ先

一般社団法人日本真空学会
〒105-0011　東京都港区芝公園3-5-8　機械振興会館306号室
TEL： 03-3431-4395　FAX： 03-3433-5371　E-mail： ofc-vsj＠vacuum-jp.org

申込方法

事前申込は締切ました．参加希望の方は会議室E204号室前の受付までお越しください．

※お申込み完了後，受付完了メールが自動返信されます．
　 受付完了メールが届かない場合は，事務局までご連絡ください． –>

講義内容（講義2時間，休憩，質疑を含む）

1.ドライプロセスの中の真空技術
2.清浄表面の確保
3.膜中不純物の管理
4.平均自由行程の確保
5.圧力とガス流量の管理