スクールコース
薄膜の基本技術講座
スパッタ薄膜の組成制御，構造制御
－VACUUM2017 真空展併催－

日　時

9月7日（木）　15:00～17:00

会　場

パシフィコ横浜　展示ホール2階 会議室E204号室

定　員

54名

主　催

一般社団法人日本真空学会

参加のおすすめ

本講座では薄膜作製法のうち、真空とプラズマを用いた手法としてスパッタ法を取り上げ，基礎的・発展的な解説を行います．スパッタ法の原理について簡単に紹介した後，スパッタ粒子の輸送過程が環境圧力から受ける影響について説明し，スパッタにおけるプロセス圧力などの成膜パラメータが，成膜過程および得られる薄膜の構造・組成にどのように影響するかについて解説します。また真空装置の到達圧力が薄膜の不純物混入に与える影響や，プラズマを制御した最新の成膜手法についても，講師が実際に行ってきた研究を含めていくつか紹介します．

聴講料（テキスト代、消費税込み）

一般5,000円，学生1,000円　　※当日受付にてお支払いください．

テキスト

講義で使用するプレゼンテーションファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したものを当日配布します．

講　師

中野 武雄（成蹊大学・日本真空学会教育委員会委員）

問合せ先

一般社団法人日本真空学会
〒105-0011　東京都港区芝公園3-5-8　機械振興会館306号室
TEL： 03-3431-4395　FAX： 03-3433-5371　E-mail： ofc-vsj＠vacuum-jp.org

申込方法

事前申込は締切ました．参加希望の方は会議室E204号室前の受付までお越しください．

講義内容（講義2時間，休憩，質疑を含む）

1.スパッタ法の原理
2.スパッタ粒子の輸送過程～ガスとの衝突・散乱・減速
3.スパッタ成膜のプロセス圧力と膜組成・膜構造
4.成膜装置の到達圧力と膜の不純物
5.大電力パルススパッタによる薄膜構造制御