スクールコース
薄膜の基本技術講座
真空蒸着：成膜の基礎および光学薄膜
－VACUUM2017 真空展併催－

日　時

9月8日（金）　15:00～17:00

会　場

パシフィコ横浜　展示ホール2階 会議室E204号室

定　員

54名

主　催

一般社団法人日本真空学会

参加のおすすめ

真空の存在は，紀元前4世紀頃にはギリシアの哲学者の間で論じられていたそうです．しかし，スパッタ現象の発見や，真空蒸着の試みが実際に行われたのは19世紀半ばでした．そして，1930年代に拡散ポンプが完成すると，まず真空蒸着が実用化され，光学反射防止膜に利用されました．その後，いろいろな成膜技術が実用化され発展しますが，現在でも，光学薄膜は真空蒸着が主要な成膜技術です．
本講座では，真空を利用した薄膜作製技術や装置の基礎的な事項と，多層の積層膜を利用する光学薄膜について紹介します．

聴講料（テキスト代、消費税込み）

一般5,000円，学生1,000円　　※当日受付にてお支払いください．

テキスト

講義で使用するプレゼンテーションファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したものを当日配布します．

講　師

大工原 茂樹（前日本真空学会事務局長，元（株）シンクロン）

問合せ先

一般社団法人日本真空学会
〒105-0011　東京都港区芝公園3-5-8　機械振興会館306号室
TEL： 03-3431-4395　　FAX： 03-3433-5371　　E-mail： ofc-vsj＠vacuum-jp.org

申込方法

事前申込は締切ました．参加希望の方は会議室E204号室前の受付までお越しください．

講義内容（講義2時間，休憩，質疑を含む）

1.真空についての基礎的な事項
2.真空蒸着装置の構成と要素
3.真空蒸着による薄膜作製時のポイントと注意点
4.真空蒸着の発展技術～イオンプレーティング，イオンビームの併用
5.各種光学薄膜について