2018真空展 スクールコース
「薄膜の基本技術講座」
―スパッタ薄膜の組成制御，構造制御―

日　時

2018年9月7日（金） 15:00～17:00

会　場

パシフィコ横浜　展示ホール2階　会議室 E204号室　交通アクセス
（〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）

主　催

公益社団法人日本表面真空学会

参加のおすすめ

本講座では薄膜作製法のうち，真空とプラズマを用いた手法としてスパッタ法を取り上げ，基礎的・発展的な解説を行います．スパッタ法の原理について簡単に紹介した後，スパッタ粒子の輸送過程が環境圧力から受ける影響について説明し，スパッタにおけるプロセス圧力などの成膜パラメータが，成膜過程および得られる薄膜の構造・組成にどのように影響するかについて解説します．また真空装置の到達圧力が薄膜の不純物混入に与える影響や，プラズマを制御した最新の成膜手法についても，講師が実際に行ってきた研究を含めていくつか紹介します．

講　師

中野武雄（成蹊大学 物質生命理工学科 教授・日本表面真空学会 教育委員会）

講義内容（講義2時間，休憩，質疑を含む）

1．スパッタ法の原理
2．スパッタ粒子の輸送過程～ガスとの衝突・散乱・減速
3．スパッタ成膜のプロセス圧力と膜組成・膜構造
4．成膜装置の到達圧力と膜の不純物
5．大電力パルススパッタによる薄膜構造制御

聴講料（テキスト代・消費税込）

一般 5,000円，学生 1,000円
※聴講料は当日会議室E204号室前受付にてお支払いください．

テキスト

講義で使用するPPTファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したもの．

定　員

54名（定員になり次第締切とさせていただきます）

申込方法

申込みは終了しました．

申込締切

2018年9月3日（月）
※余席があれば当日参加も受け付けます．
　会議室E204号室前の受付までお越しください．

問合せ先

公益社団法人日本表面真空学会 事務局
TEL: 03-3812-0266　　FAX: 03-3812-2897　　E-mail: office@jvss.jp