スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第161回定例研究会・第15回技術交流会

　SP部会では，会員相互の技術情報交換の場を提供するために，技術交流会を企画しています．毎回ご好評をいただいており，今年で15回目となります．ショートプレゼンテーションとポスター発表をあわせた形とし，かつポスターセッションは懇親を兼ねる形といたします．通常の定例研究会では，会員相互が情報を交換する機会が限定され，せっかく同じ部会に所属していることのメリットを十分に活かせておりませんでした．この技術交流会を機会に，是非会員相互で有益な技術情報を交換していただき，会員各社のさらなる技術的発展につながればと考えております．部会員以外の方の参加も歓迎いたします．皆様の奮ってのご参加をお待ちしております．なお，ポスター発表者の当日（定例研究会と技術交流会）の参加費は無料です．

日　時

2018年12月10日（月）　13:00～18:30（受付12:30～）

場　所

機械振興会館　地下3階　B3-1号室　（東京都港区芝公園3-5-8/東京タワー前）　交通アクセス

 

プログラム

定例研究会
(1) プラズマCVDおよびスパッタリング法によるヘテロ接合型太陽電池用薄膜の形成
（東海大学　工学部　電気電子工学科）　金子哲也　　13:00～13:40
(2) 血中循環がん細胞補足システムに向けたプラズマプロセス
（AGC株式会社　商品開発研究所）　木原直人　　13:40～14:20
 

―休　憩―

技術交流会
（3）ショートプレゼンテーション （6件）14:40～16:40

（4）ポスターセッション （8件）17:00～18:30
 
　① スパッタとはどんな現象か東京理科大学 工学部 第二部 電気工学科　 ○岡田　修
 
　② 高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発
¹⁾東京電子株式会社，²⁾岡山理科大学　 ○黒岩雅英¹⁾，岡野忠之¹⁾，中谷達行²⁾，福江紘幸²⁾
 
　③ 電気的に陰性なスパッタリングプラズマ金沢工業大学材料科学センター　 ○草野英二
 
　④ スパッタ法による窒化ガリウムのエピタキシャル成長株式会社アルバック　 ○山本拓司，白井雅紀，高澤　悟，石橋　暁
 
 
　⑤ スパッタ成膜において反射アルゴンが薄膜の配向性に及ぼす影響京都大学　 ○後藤康仁
 
　⑥ Ar-He混合ガスを用いるRFマグネトロンスパッタによるAlドープZnO薄膜の堆積とその電気的特性評価
東海大学大学院 工学研究科　 ◯諏訪翁紀，今泉　悟，津田和希，中村　忠，沖村邦雄
 
　⑦ 耐放射線FEA撮像素子の開発(III) ～可搬型真空容器の作製とガンマ線照射下におけるFEAの動作特性～
¹⁾京都大学，²⁾産業技術総合研究所，³⁾静岡大学，⁴⁾木更津工業高等専門学校，⁵⁾大阪府立大学
後藤康仁¹⁾，森藤瑛之¹⁾，半田裕典¹⁾，長尾昌善²⁾，増澤智昭³⁾，根尾陽一郎³⁾，三村秀典³⁾，
岡本　保⁴⁾，猪狩朋也⁴⁾，福井貴大⁴⁾，秋吉優史⁵⁾，佐藤信浩¹⁾，高木郁二¹⁾
 
　⑧血中循環がん細胞捕捉システムに向けたプラズマプロセスAGC株式会社 商品開発研究所　 ○木原直人

参加費　※当日受付にてお支払いください．

SP部会会員	無　料
日本表面真空学会個人正会員	23,000円
日本表面真空学会法人正会員，維持会員，賛助会員	18,000円
教育機関，公的機関に属する方	12,000円
学生	5,000円
一般	28,000円
ポスター発表者	無　料

申込方法

申込みは終了しました．