主題　「斜め蒸着法，GLAD，STF等，シャドウイングによるナノ形態の制御と評価」

実用的観点から従来，通常薄膜の内部の不均一性に起因するナノ形態は着目されることはほとんどなかったが，薄膜の内部の形態を再現性よく制御することができれば，材料そのものの機能性に加えて形態によって発現する様々な有用性を利用することが可能になる．近年のリソクラフィ技術のめざましい発展によって，nmレベルの微細加工も可能となったが，大面積に低コストで3次元形態を形成することは依然として困難である．

一方，薄膜の成長メカニズムを巧みに利用すれば，自己組織的なナノ形態の制御が可能であるが，その有力な方法の一つが斜め蒸着法である．斜め蒸着法，GLAD，STF等，シャドウイングによるナノ形態制御技術は，ナノメートルオーダーの3次元規則構造を持つ薄膜の形成や低次元量子構造等のナノ形成手法として注目され，超高密度磁気記録媒体や，量子ドットを利用した高性能太陽電池，不均一触媒への応用，光デバイスの作製など，様々な特性や機能を持った薄膜やデバイスを作製するための方法として活発に研究が進められてきている．

そこで，本シンポジウムでは，斜め蒸着法を利用したナノ形態制御技術を駆使した高機能デバイスを目指した最先端の研究を進められておられる研究者の方に招待講演として，研究内容を紹介いただくとともに，斜め蒸着法を利用したナノ構造技術の研究を進めている研究者の方々にも参加いただき最新の研究成果の情報交換を行うとともに，今後の課題について討論していただく機会としたいと考えております．

多くの皆様のご参加をお待ちしております．

日　時：2015年3月11日(水)　13：15～17：00
場　所：東海大学 湘南キャンパスD9会場（16号館3階304室）
　　　　　〒259-1292　神奈川県平塚市北金目4-1-1
　　　　　　http://meeting.jsap.or.jp/accessmap.html
　　　　　（参加には、応用物理学会春季学術講演会への参加登録が必要です．）
　　　　　　http://meeting.jsap.or.jp/registration.html

　　　　　　　　　　　　　　　講演プログラム
1．シャドウイングによるナノ形態制御技術の進展と課題　　　（京大院工）鈴木 基史　13：15～14：00

2．3次元ナノテンプレートPLD法による遷移金属酸化物微細構造体創製
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 （阪大産研）服部 梓　14：00～14：30
3．雰囲気ガスによる表面拡散の制御法の開発と明瞭なAgナノコラム形成への応用
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 （京大院工）伊東 孝将　14：30～14：45
4．反応性環境下での斜め堆積による化合物薄膜の離散的ナノ柱状構造形成
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 （千葉工大工）井上 泰志　14：45～15：15
　　　　　　　　　　　　　　　　　＜休憩＞

5．異材界面に挿入したナノ要素集合薄膜の破壊基準　　　　　　（京大工）澄川 貴志　15：30～16：00

6．斜め蒸着法を用いた無機光学素子　　　　　　　　　（デクセリアルズ）高田 昭夫　16：00～16：30

7．WO3-NRs/BiVO4 core-shell nanostructure for enhanced photocatalytic H2 production
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（東大院工）Yuriy Pihosh　16：30～17：00

お問い合わせ先：応用物理学会　TEL：03-5802-0861　FAX：03-5802-6520
　　　　　　　　日本真空学会　TEL：03-3431-4395　FAX：03-3433-5371
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