スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第157回定例研究会
テーマ：「圧電デバイスとその応用」

　水晶や特定のセラミックス等で見られる圧電効果を利用した“圧電デバイス”は，マイクロフォン，アクチュエーターから高周波フィルター，発信器まで様々な領域で大量に使用されており，スマートフォンには多くの“圧電デバイス”が搭載されております．
　本研究会ではこれらに関する最新の技術動向を，大学，研究機関およびメーカーから最前線で活躍中の講師をお招きして講演していただきます．本研究会に多数の方が参加され，スパッタリングおよびプラズマプロセス分野の更なる発展，製品化につながる知見が得られることを期待します．多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます．

日　時

2018年3月13日（火）　13:00～16:40 （受付12:30～）

場　所

機械振興会館　地下3階 B3-6号室　（東京都港区芝公園3-5-8）　交通アクセス

講演プログラム

高周波弾性波デバイスの現状とプラズマプロセスの役割（千葉大学）　橋本 研也　13:00～13:40
 
機能性材料薄膜を用いたMEMS製造技術（(株)アルバック）　小林 宏樹　13:40～14:20
 
圧電MEMSデバイスに向けた圧電薄膜の電圧印加時の結晶構造解析（神戸大学）　譚 ゴオン　14:20～15:00
 

休憩　（15:00～15:20）

振幅/位相測定による水晶式膜厚計（(株)昭和真空）　古泉 秀樹　15:20～16:00
 
窒化アルミニウム圧電薄膜への元素添加の影響（産業技術総合研究所）　上原 雅人　16:00～16:40
 

参加費　※当日受付にてお支払いください．

SP部会員	無料
日本真空学会個人会員	23,000円
日本真空学会法人会員	18,000円
教育機関，公的機関に属する者	12,000円
学生	5,000円
一般	28,000円

申込方法

申込みは終了しました．

問合せ先

一般社団法人日本真空学会 事務局
TEL： 03-6801-6264　　FAX： 03-3812-2897　　E-mail： ofc-vsj＠vacuum-jp.org