2018真空展 スクールコース
「薄膜の基本技術講座」
―LED・ワイドギャップ半導体素子製造プロセスと結晶成長の課題―

日　時

2018年9月5日（水） 15:00～17:00

会　場

パシフィコ横浜　展示ホール2階　会議室 E204号室　交通アクセス
（〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）

主　催

公益社団法人日本表面真空学会

参加のおすすめ

昨今，青色発光ダイオード（青色LED），高速通信素子や省エネ用大電力制御素子の観点からワイドギャップ半導体素子が注目されています．LED・ワイドギャップ半導体の結晶成長（装置・プロセス）を中心にデバイスからの要求と結晶成長プロセスの関係を解説します．
特に，結晶成長に必要なMOCVD技術の特徴を真空技術の観点から解説します．

講　師

松本　功（大陽日酸株式会社 開発本部・本部長付き 技監）

講義内容（講義2時間，休憩，質疑を含む）

1．ワイドギャップ半導体と素子応用
2．MOCVDおよびHVPEによる結晶成長技術
3．電子デバイス用結晶成長の課題
4．発光デバイス用結晶成長の課題
5．光・電子デバイスの生産性向上

聴講料（テキスト代・消費税込）

一般 5,000円，学生 1,000円
※聴講料は当日会議室E204号室前受付にてお支払いください．

テキスト

講義で使用するPPTファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したもの．

定　員

54名（定員になり次第締切とさせていただきます）

申込方法

申込みは終了しました．

申込締切

2018年9月3日（月）
※余席があれば当日参加も受け付けます．
　会議室E204号室前の受付までお越しください．

問合せ先

公益社団法人日本表面真空学会 事務局
TEL: 03-3812-0266　　FAX: 03-3812-2897　　E-mail: office@jvss.jp