2018真空展 スクールコース
「薄膜の基本技術講座」
―真空蒸着：成膜の基礎および光学薄膜―

日　時

2018年9月7日（金） 12:30～14:30

会　場

パシフィコ横浜　展示ホール2階　会議室 E204号室　交通アクセス
（〒220-0012 神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）

主　催

公益社団法人日本表面真空学会

参加のおすすめ

真空の存在は，紀元前4世紀頃にはギリシアの哲学者の間で論じられていたそうです．しかし，スパッタ現象の発見や，真空蒸着の試みが実際に行われたのは19世紀半ばでした．そして，1930年代に拡散ポンプが完成すると，まず真空蒸着が実用化され，光学反射防止膜に利用されました．その後，いろいろな成膜技術が実用化され発展しますが，現在でも，光学薄膜は真空蒸着が主要な成膜技術です．
本講座では，真空を利用した薄膜作製技術や装置の基礎的な事項と，多層の積層膜を利用する光学薄膜について紹介します．

講　師

大工原茂樹（元日本真空学会事務局長・元株式会社シンクロン）

講義内容（講義2時間，休憩，質疑を含む）

1．真空についての基礎的な事項
2．真空蒸着装置の構成と要素
3．真空蒸着による薄膜作製時のポイントと注意点
4．真空蒸着の発展技術～イオンプレーティング，イオンビームの併用
5．各種光学薄膜について

聴講料（テキスト代・消費税込）

一般 5,000円，学生 1,000円
※聴講料は当日会議室E204号室前受付にてお支払いください．

テキスト

講義で使用するPPTファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したもの．

定　員

54名（定員になり次第締切とさせていただきます）

申込方法

申込みは終了しました．

申込締切

2018年9月3日（月）
※余席があれば当日参加も受け付けます．
　会議室E204号室前の受付までお越しください．

問合せ先

公益社団法人日本表面真空学会 事務局
TEL: 03-3812-0266　　FAX: 03-3812-2897　　E-mail: office@jvss.jp