日本表面真空学会 2019年9月研究例会
主題「真空機器を腐食や汚染などのダメージから守るための技術」

　半導体産業や成膜技術等においては，腐食や汚染が懸念される環境で，真空技術を使わざるを得ない場合があります．こうした過酷環境においても，真空機器を健全に動作させると同時に，パーティクルや不純物ガスを発生させないことは，高品質な製品を安定に製造し続けるために極めて重要な技術です．
　そこで今回は，先ず，東北大学の原信義先生より，金属腐食が発生する基本原理についてご解説頂きます．続いて，真空環境における腐食や汚染を防止するための技術を培ってこられたメーカ各社より，最新の成果をご発表頂きます．最後に，大阪教育大学の辻岡先生より，金属蒸着選択機能を発現させる表面処理技術について，ご講演頂きます．本技術を応用すると，所望の位置への金属蒸着による堆積を制御することが可能になるということです．
　本研究会が，腐食や汚染が懸念される環境で真空技術を使わざるを得ない方々と，真空機器を腐食や汚染から守る技術を開発されてきた方々とを繋ぐ架け橋となることを願っております．講演会終了後，同じ会場内でフリーディスカッションとしてご講演者と密にコミュニケーションを取ることのできる場を設けていますので，併せてご参加ください．
 

日　時

2019年9月3日（火） 14:00～18:30（受付13:30～）

会　場

機械振興会館 地下3階 B3-1号室（予定）　交通アクセス
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8

協　賛

一般社団法人日本真空工業会，TIAかけはし

講演プログラム

開会の挨拶（日本表面真空学会 研究例会企画専門部会，物質・材料研究機構）板倉 明子　14:00～14:05

1．金属の腐食の基礎概念（東北大学）原　 信義　14:05～14:50

2．半導体製造プロセス向けドライ真空ポンプにおける防食技術（(株)荏原製作所）塩川 篤志　14:50～15:15

3．マイクロアーク酸化処理をしたアルミニウム合金のガス放出特性（(株)アルバック）石榑 文昭　15:15～15:40

4．半導体製造装置部品向けに独自開発した超耐食性アルマイト「ヤギマイト」
（中国電化工業(株)）東　 幸緒　15:40～16:05

 

休憩 16:05～16:20

5．半導体製造工程のコンタミネーション制御（(株)コンタミネーション・コントロール・サービス）進藤 豊彦　16:20～16:45

 

6．プラズマCVD法で可能になる，微細構造への金属オスミウムコーティング
（(株)大和テクノシステムズ）　川島 優子　16:45～17:10

 

7．フォトクロミック・ジアリールエテン表面における金属蒸着選択機能（大阪教育大学）辻岡　 強　17:10～17:55

 

挨拶（日本表面真空学会 研究例会企画専門部会 委員長，京都大学）後藤 康仁　17:55～18:00

フリーディスカッション18:00～18:30

 

参加費（消費税込）　※当日会場にてお支払いください．

日本表面真空学会個人正会員，法人正会員，維持会員，賛助会員	3,000円（予稿集代を含む）
協賛学協会会員	3,000円（予稿集代を含む）
非会員	5,000円（予稿集代を含む）
学　生	無　料（予稿集代1,000円）

参加定員

50名（定員に達し次第締め切ります）

申込締切

2019年8月30日（金）

申込方法

申込みは終了しました．

問合せ先

公益社団法人日本表面真空学会 事務局
TEL： 03-3812-0266　　FAX： 03-3812-2897　　E-mail： office@jvss.jp

本件担当

公益社団法人日本表面真空学会 研究例会企画専門部会　吉田　肇，板倉 明子